臺灣博碩士論文加值系統

本論文主要研究方向在探討PQ/PMMA材料製程，以及其光學特性量測。首先我們將介紹PQ/PMMA材料的製作流程，並製作出不同厚度的材料，接著架設兩道光干涉系統來記錄光柵於此材料中，並量測此材料的繞射效率與曝光能量之關係。此外，我們亦針對不同曝光能量與速率探討繞射效率的暗反應特性。

The main goal of this research is to fabricate the PQ/PMMA materials and measure its optical properties. First, we describe the fabricating procedure and produce some PQ/PMMA bulk materials with different thickness. Then, an optical interference system has been setup to measure the diffraction efficiency and dark-effect of the various expose energy.

目錄 IV
圖目錄 V
表目錄 VI
第一章 緒論 1
1.1 前言-全像術介紹 1
1.1.1 薄全像 2
1.1.2 厚全像(體積全像) 3
1.1.3 記錄材料介紹 4
1.2 緣由及研究動機 5
1.3 章節內容簡介與摘要 6
第二章 摻雜PQ於PMMA的感光高分子材料之光學特性 8
2.1 簡介 8
2.1.1 模具介紹 8
2.1.2 PQ/PMMA材料介紹 11
2.2 PQ/PMMA材料的製備 14
2.3 樣品的光學特性量測 16
2.3.1 光學量測系統介紹 17
2.3.2穿透率以及折射率量測與記錄 17
2.4 討論 21
第三章 摻雜PQ於PMMA的感光高分子的全像記錄與重建 22
3.1 全像記錄與重建系統 22
3.2 繞射效率量測與記錄 23
3.3 暗反應實驗量測與記錄 26
3.3.1 暗反應 26
3.3.2 瞬間能量對暗反應的影響 31
第四章 結論 37
參考文獻 38

[1]林俊華,”PQ/PMMA 感光高分子的體積全像儲存特性研究”,國立交通大學，碩士論文，民國92年。
[2]蕭義男,”以PQ為光吸收的感光高分子材料在全像光學儲存上的製備與特性研究”,國立交通大學，碩士論文，民國89年。
[3]P.Hariharan ,”Optical Holography”, amberidge University Press 1996
[4]Pochi Yeh “Introduction to Photorefractive Nonlinear Optics”, A Wiley-Interscience Publiccation