臺灣博碩士論文加值系統

化學鍍鎳具有優異的耐蝕性、良好的耐磨性、鍍層厚度均勻、與基材結合力好以及良好的非磁性性能。在工業應用上已經在機械、石油、化工、電子、航空、軍事等許多領域獲得應用。
化學鍍鎳的鍍速與磷含量是管控化學鎳鍍液的兩項重要指標，在酸性鍍液的範圍裏，這兩項指標增加的趨勢在許多方面是反向的。絡合劑絡合能力強弱、pH值高低、溫度高低等會影響鍍速的快慢與磷含量的高低；當絡合劑絡合能力強、pH值低、溫度低時則鍍速慢、磷含量高。若欲提高鍍速，磷含量就相對降低些；想提高磷含量，就得犧牲高鍍速。
本研究從鍍液成分組成、絡合劑的種類與數量、pH、溫度等因素在理論與文獻的基礎下，使用連續正交試驗、進一步再微調優化，在主絡合劑乳酸21 g/L；輔助絡合劑琥珀酸6.1 g/L；pH值4.8；溫度 87℃條件下，得到最佳優化的技術配方，鍍速 10.98 μm/h，磷含量11.04 %；再使用鹽霧試驗，證實了鍍層皮膜可以耐鹽霧48 h，具有優異的耐蝕性；鍍層的微結構分析結果顯示皮膜為非晶態且緻密。
在化學鍍鎳鍍液組成中，絡合劑種類的改變，不同絡合劑的複合組合，不同的絡合劑數量，不同的技術條件，溫度、pH值，不同的前處理製程，不同的後處理製程，皆會改變鍍液之鍍速、磷含量與鍍層的性能，化學鍍鎳技術是一種非常敏感的技術，因此在研究過程中應非常的嚴謹，特別是操作人員的態度與細心度非常的重要。

The advantage of electroless nickel plating had on corrosion resistance, uniformity, high hardness and good non-magnetic capability. It was widely used in Machinery, petroleum, chemicals, textiles, electronics, aerospace, military and many other fields.
Two key points of plating rate and phosphorus content are major control conditions during the electroless plating process. The trend of the two characteristic was contradictory. The effects of complexing agent, pH values and temperature on plating rate and phosphorus content were investigated. The stronger complexing agent, low pH values and low temperature leaded to low plating rate and high phosphorus content. Increasing of plating rate leaded to decreasing of phosphorus content. Therefore, the phosphorus content were decreased with increasing of plating rate.
Our study focused on the effects of bath composition, complexing agents, pH values and temperature base on literature and experience. The investigation was carries on the optimization with the continuous orthogonal testing method. The optimal condition of electroless nickel plating was obtained：Lactic acid 21 g/L, Succinic acid 6.1 g/L, pH 4.8, temperature 87℃.The plating rate attain 10.98 μm/h. The phosphorus content of the coating film under this condition was about 11.04 %. The corrosion resistance reached 48 hours due to salt spray test. The microcrystalline structure of specimen showed an amorphous phase.
The composition and concentration of complexing agents, the conditions of operation, pH values, temperature, pretreatment and post-treatment almost leaded to significant changes on plating rate, phosphorus content and properties of the coating. Electroless nickel plating is a very sensitive technology, therefore should be very serious, especially the manner and careful of the operator is very important.

目錄
摘要
Abstract
誌謝
目錄
表目錄
圖目錄
第一章 序論
1.1化學鍍概述
1.2化學鍍鎳的發展歷史與應用
1.3文獻回顧
1.4研究動機與目的
第二章 原理與鍍液組成及其技術管理
2.1酸性化學鍍鎳的原理
2.2酸性化學鍍鎳鍍液的主要組成
2.3酸性化學鍍鎳技術管理
2.3.1 影響鍍速因素的管理
2.3.2 影響鍍液穩定性因素的管理
2.3.3 影響皮膜耐蝕性因素的管理
2.4作業流程及技術參數管控
第三章 實驗方法與流程
3.1試驗材料與條件
3.2技術流程
3.3 正交實驗設計
3.4實驗流程
3.5實驗的檢測方法
3.5.1 鍍層厚度與沈積速度測試
3.5.2 耐腐蝕性測試方法
3.5.3 鹽霧試驗
3.5.4 EDS含磷量測定
3.5.5 SEM檢測
3.5.6 X射線繞射分析儀XRD
第四章 結果與討論
4.1鍍液配方的選擇
4.1.1 酸性化學鍍鎳主要組成選定
4.1.2 最佳絡合劑探討結果
4.2 五因素四水平的正交探討
4.2.1五因素四水平的小結論
4.3 四因素三水平的正交探討
4.3.1乳酸與琥珀酸的複合組合
4.3.2乳酸與蘋果酸的複合組合
4.3.3乳酸與乙醇酸的複合組合
4.3.4 四因素三水平的小結論
4.4 雙層微調優化探討
4.4.1 雙層微調優化結果
4.5 Ni-P鍍層形貌、成分及結構分析
4.5.1 Ni-P鍍層形貌觀察
4.5.2 Ni-P鍍層成分及結構分析
第五章 結論與建議
第六章 參考文獻

參考文獻
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