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本論文係利用紅外線爐化學氣相沉積的方式將硒化鋅異質磊晶 於矽基板上,並採用兩階段長晶法克服兩者4.1%的晶格不匹配。磊晶 成 長完之硒化鋅薄膜分別藉由SEM, SIMS, XRD 和PL 加以探討,吾 人觀 察得知硒化鋅薄膜之表面平滑,硒和鋅成份分佈均勻而且薄膜結 構接近 單晶。 由PL 光譜在10K時測得硒化鋅薄膜在444nm(2.793eV)有一能隙 光造成 的NBE peak。隨著溫度的升高NBE peak強度減小,線寬變寬 並且波峰 往長波長偏移。而經銦摻雜的硒化鋅薄膜在452nm(2.743eV) 有一施體階 造成的peak。 在元件的 製作方面,吾人利用此硒化鋅異質磊晶層製作蕭特基二 極體及異質 接面雙極性電晶體。在蕭特基二極體方面,吾人嘗試改變 各種蕭特基金 屬,藉由I-V和C-V方式量測硒化鋅磊晶層之濃度以及 其位障高。而在 蕭特基光二極體方面,發現在短波長450nm時具有最 大光電流響應。
在 self-aligned ZnSe/Si 異質接面雙極性電晶體方面,測得元件之 共 射極電流增益為28。而異質光電晶體特性方面,在短波長470nm藍 光波 段時亦具有最大光電流響應。由結果得知將硒化鋅成長於矽基板 所製作 之光電元件極適合來製作低成本的短波長藍光偵測器,在未來 短波長元 件的OEIC應用上極具潛力。
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