臺灣博碩士論文加值系統

本論文之目的乃在製造氧化銦錫透明導電薄膜。真空蒸鍍法被用來製造氧化銦錫薄膜
。在氧氣環境中，置於鉬製蒸鍍船中的金屬銦與金屬錫被加熱而蒸發，而巷在上方的
加熱基板上成長出氧化銦錫薄膜。
降低氧化銦錫薄膜電阻率的關鍵在適當調整金屬錫對金屬銦的重量比至一最佳值。根
據所需的薄膜厚度而適當調整金屬銦的重量亦能使蒸鍍速率保持穩定。
以此種簡單的蒸鍍法所製造出的氧化銦錫薄膜有著良好的品質。電阻率低達1.8×10-
4Ω-cm的薄膜可被重覆地製造出來。