臺灣博碩士論文加值系統

本實驗使用鋁片(99.7%)經丙酮脫脂、化學拋光，再進行陽極處理。為了提升氧化膜之性質，於硫酸電解液中添加磺基水楊酸(SSA)，來增加氧化膜的硬度、耐蝕性、緻密性與微觀結構等。研究主要分為兩部份，第一部分為硫酸法陽極處理，藉由改變參數，例如電壓、溫度、濃度，並挑選出最佳參數來進行第二部分實驗。第二部分為，硫酸/SSA陽極處理程序，由第一部分實驗做為對照組，添加不同含量SSA，並觀察添加SSA對於氧化膜特性之影響。
第一部分實驗結果為，在工作電壓15 V、電解液濃度10 wt%硫酸與陽極處理溫度15℃時，有最少的膜厚4.01μm、最大之硬度655 Hv與良好的耐蝕性，Icorr = 0.573nA/cm2。本研究為了再次提升氧化膜機械性質，添加SSA於硫酸溶液中，實驗結果顯示在工作電壓15 V、陽極處理溫度15℃，硫酸電解液中添加30 g/L的SSA，可提升陽極氧化膜之硬度到718 Hv與降低腐蝕電流Icorr = 0.258 nA/cm2，而利用沸水封孔30分鐘後，可再次降低腐蝕電流Icorr = 0.124 nA/cm2。藉由場發射電子顯微鏡的觀察，添加30 g/L的磺基水楊酸可以降低氧化膜表面的孔隙率至509 no./μm2，而添加SSA可使膜厚成長速率略微提升。由EDX與FT-IR分析結果顯示，氧化膜內含有碳、硫、氧與鋁的成份及硫氧鍵結，XRD相分析可知此陽極氧化膜為非晶相。

Aluminum substrate (99.7% Al) was pretreated by acetone degreasing and smoothed by chemical polishing, and then anodizing. In order to improve the properties of oxide film, sulfosalicylic acid (SSA) was added to sulfuric acid electrolyte . The hardness, corrosion resistance, and
compactness of film were increased by using mixed acid electrolyte. The study is divided into two parts, the first part is sulfuric acid anodizing. By changing parameters such as voltage, temperature, concentration, to optimize the film charactertics. The second part, the mixed acids anodization, by adding different amounts of SSA to sulfuric acid to observe effect of SSA on film properties.
The experimental results of the first part indicated that the optimal operating parameters of the sulfuric acid anodizing were 15 V, 10 wt% sulfuric acid and 15℃for the maximum microhardness 655 Hv and good corrosion resistance with Icorr = 0.573 nA/cm2. For the second part of experiment, mixed acid composed of 10 wt% sulfuric acid and 30 g/L sulfosalicylic acid (SSA) was used for anodization. Oxide films with better microhardness of 718 Hv, corrosion resistance with Icorr = 0.258 nA/cm2, and least porosity of 509 no./μm2 were prepared. After sealing in boiling water for 30 minutes, corrosion current can be lowered furthermore to Icorr = 0.124 nA/cm2. Addition of SSA can increase the growth rate of oxide film slightly. Based upon FT-IR and EDX analytical results, oxide film containing carbon, sulfur, oxygen, aluminum elements as well as sulfur oxygen bonding. The oxide film is amorphous phase as revealed by XRD patterns.

摘要 i
Abstract ii
總目錄 iii
圖目錄 vi
表目錄 xi
第一章 緒論 1
1.1 前言 1
1.2 實驗動機 2
1.3 實驗目的 3
第二章 文獻回顧 5
2.1 陽極氧化膜 5
2.1.1 陽極氧化膜簡介 5
2.1.2 陽極氧化膜結構與形成 7
2.2 鋁陽極氧化膜成長機制 9
2.3 陽極氧化膜形成之化學反應 12
2.4 單一酸電解液 13
2.4.1 硫酸法陽極處理 14
2.4.2 鉻酸法陽極處理 15
2.4.3 草酸法陽極處理 15
2.4.4 磷酸法陽極處理 16
2.5 混合酸電解液 16
2.5.1 硼酸/硫酸電解液 16
2.5.2 酒石酸/硫酸電解液 16
2.5.3 草酸/硫酸電解液 18
2.5.4 硫酸/磺基水楊酸電解液 20
2.6 封孔處理 22
2.7 鋁陽極氧化之應用 23
2.8 重要的文獻回顧 25
第三章 實驗步驟與儀器原理 28
3.1 實驗裝置與試劑 30
3.1.1 陽極處理實驗裝置 30
3.1.2 實驗藥劑 31
3.2 實驗步驟 32
3.2.1 鋁片前處理 32
3.2.2 陽極處理 32
3.2.2.1 硫酸法陽極處理 32
3.2.2.2 硫酸/磺基水楊酸混合酸法陽極處理 33
3.2.3 封孔處理 33
3.3儀器原理 35
3.3.1 恆電位儀 35
3.3.2 溶膜測試 36
3.3.3 硬度試驗 37
3.3.4 場發射掃描式電子顯微鏡 39
3.3.5 X-ray 繞射分析儀 41
3.3.6 傅立葉轉換紅外線光譜儀 (FT-IR) 42
第四章 結果與討論 43
4.1 陽極氧化膜之SEM圖 43
4.1.1 化學拋光對鋁基材表面之影響 43
4.1.2 硫酸法鋁陽極處理表面形貌 45
4.1.3 硫酸/磺基水楊酸混合酸法鋁陽極處理表面形貌 49
4.1.4 硫酸/磺基水楊酸混合酸陽極處理之封孔後表面形貌 52
4.1.5 硫酸法鋁陽極處理截面形貌 53
4.1.6 硫酸/磺基水楊酸混合酸法鋁陽極處理截面形貌 56
4.1.7 擴孔時間對孔洞的影響 59
4.1.8 陽極處理時間與膜厚的關係 63
4.2硬度試驗 67
4.2.1 硫酸法鋁陽極處理硬度測試 67
4.2.2 硫酸/磺基水楊酸混合酸之硬度測試 69
4.3 腐蝕試驗 71
4.3.1 硫酸法未封孔動電位極化曲線試驗 71
4.3.2 硫酸/磺基水楊酸混合酸未封孔動電位極化曲線試驗 74
4.3.3 硫酸/磺基水楊酸混合酸封孔之動電位極化曲線試驗 78
4.4 溶膜測試 79
4.4.1 硫酸法鋁陽極氧化之溶膜試驗 79
4.4.2 硫酸/磺基水楊酸混合酸法鋁陽極氧化之溶膜試驗 82
4.5 陽極氧化膜之FT-IR分析.........................................................85
4.6 陽極氧化膜之EDX分析..........................................................87
4.7 陽極氧化膜之XRD分析..........................................................91
第五章 結論 92
參考文獻 95














圖目錄
圖2.1 氧化鋁結構圖 6
圖2.2 電壓對孔洞大小之關係圖 6
圖2.3 多孔層形成步驟(a)固定電流(b)固定電壓 8
圖2.4 在濃度0.3 M草酸，定電壓30 V、溫度0-1℃條件之電流密度與時間關係圖 8
圖2.5 表面形成區域性電場集中之過程圖 10
圖2.6 孔洞成核過程 11
圖2.7 氧化鋁之陽離子與陰離子反應形成孔洞並穩定成長 11
圖2.8 陽極氧化鋁之底部 12
圖2.9 三種不同電解液，(a)硫酸，(b)草酸，(c)磷酸 14
圖2.10 場發射電子顯微鏡未封孔陽極氧化鋁表面微結構分析(a)稀硫酸陽極處理(b)硫酸/酒石酸陽極處理 17
圖2.11 電流密度和膜厚對於金屬增加含量關係圖 19
圖2.12 硫酸與硫酸/草酸陽極氧化膜磨耗測試 20
圖2.13 鋁陽極氧化膜TEM圖 (a)未封孔 (b)封孔 23
圖3.1 實驗流程圖 29
圖3.2 鋁陽極處理裝置 30
圖3.3 動電位極化曲線分析圖 36
圖3.4 典型的鋁材與溶膜時間關係圖 37
圖3.5 藉由壓痕來量取陽極氧化膜硬度的實際圖 38
圖3.6 SEM結構示意圖 40
圖3.7 X-ray繞射示意圖 41
圖3.8 (a)CNT/ AAO，（B）羧基化CNT/AAO，及（c）氨基化CNT/AAO紅外線吸收光譜 42圖4.1 (a)鋁材未經化學拋光之表面形貌圖 43圖4.1(b)鋁材未經化學拋光表面粗度分析 44圖4.2 (a)鋁材化學拋光後之表面形貌 44圖4.2 (b)鋁材化學拋光後之表面粗度分析 44
圖4.3 硫酸法鋁陽極處理30分鐘之上視圖，在定溫15℃與固定硫酸濃度10 wt%，並改變其工作電壓。(a)電壓15 V，(b)電壓20 V 46
圖4.4 硫酸法鋁陽極處理30分鐘之上視圖，在定電壓15 V與硫酸濃度10 wt%，並改變其工作溫度。(a)溫度15℃，(b)溫度20℃，(c)溫度25℃ 47
圖4.5 硫酸法鋁陽極處理30分鐘之上視圖，在定電壓15 V與溫度15℃，並改變其濃度。(a)10 wt%硫酸，(b)15 wt%硫酸，(c)20 wt%硫酸 48
圖4.6 硫酸/SSA混合酸陽極處理30分鐘上視圖，在定電壓、溫度與硫酸濃度，添加不同含量之SSA (a)10 g/L SSA，(b)30 g/L SSA，(c)50 g/L SSA 50
圖4.7 硫酸/SSA混合酸陽極處理30分鐘上視圖，在定溫度與電解液濃度，不同電壓 (a)15 V，(b)20 V 51
圖4.8 硫酸/SSA混合酸陽極處理30分鐘封孔前後之表面形貌，(a)未封孔，(b)沸水封孔30分鐘 52
圖4.9 硫酸法陽極處理30分鐘橫截面圖，溫度15℃，電壓15 V，硫酸濃度10 wt%。圖(a)膜厚4.01 μm，圖(b)放大100 K倍 54
圖4.10 硫酸法陽極處理30分鐘橫截面圖，溫度25℃，電壓15 V，硫酸濃度10 wt%。圖(a)膜厚9.25 μm，圖(b)放大100 倍 54
圖4.11 硫酸法陽極處理30分鐘橫截面圖，溫度15℃，電壓15 V，硫酸濃度20 wt%。圖(a)膜厚8.31 μm，圖(b)放大100 K倍 55
圖4.12 硫酸法陽處理30分鐘橫截面圖，溫度15℃，電壓20 V，硫酸濃度10 wt%。圖(a)膜厚9.87 μm，圖(b)放大100 K倍 55
圖4.13 磺基水楊酸添加量與膜厚之關係 56
圖4.14 硫酸/SSA混合酸陽極處理30分鐘橫截面圖，溫度15℃，電壓15 V，硫酸濃度10 wt% + SSA 10 g/L。圖(a)膜厚4.18 μm，圖(b)放大100 K倍 57
圖4.15 硫酸/SSA混合酸陽極處理30分鐘橫截面圖，溫度15℃，電壓15 V，硫酸濃度10 wt% + SSA 30 g/L。圖(a)膜厚，圖(b)放大100 K倍 57
圖4.16 硫酸/SSA混合酸陽極處理30分鐘橫截面圖，溫度15℃，電壓15 V，硫酸濃度10 wt% + SSA 50 g/L。圖(a)膜厚5.17 μm，圖(b)放大100 K倍 58
圖4.17 硫酸/SSA混合酸陽極處理30分鐘橫截面圖，溫度15℃，電壓20 V，硫酸濃度10 wt% + SSA 30 g/L。圖(a)膜厚13.21 μm，圖(b)放大100 K倍 58
圖4.18 硫酸法陽極處理擴孔隨時間變化圖，(a) 未擴孔 (b) 擴孔5 分鐘，(c) 擴孔 10 分鐘，(d) 擴孔 15 分鐘，(e) 擴孔 20 分鐘，(f) 擴孔 25 分鐘 60
圖4.19 硫酸/SSA混合酸陽極處理擴孔隨時間變化圖，(a) 未擴孔 (b) 擴孔5 分鐘，(c) 擴孔 10 分鐘，(d) 擴孔 15 分鐘，(e) 擴孔 20 分鐘，(f) 擴孔 25 分鐘 61
圖4.20 擴孔時間對孔徑之影響 62
圖4.21 不同時間之硫酸法陽極處理，對截面形貌之影響，(a)~(f)分別為陽極處理10至60分鐘 64
圖4.22 不同時間之硫酸/SSA混合酸法陽極處理，對截面形貌之影響，(a)~(f)分別為陽極處理10至60分鐘 65
圖4.23 陽極處理時間對厚度關係圖 66
圖4.24 硫酸法陽極處理溫度對於氧化膜硬度的影響 68
圖4.25 硫酸法陽極處理電解液濃度對於氧化膜硬度的影響 68
圖4.26 硫酸法陽極處理工作電壓對於氧化膜硬度的影響 68
圖4.27 添加不同含量SSA對於氧化膜硬度的影響 70
圖4.28 硫酸/SSA混合酸不同工作電壓對於氧化膜硬度的影響 70
圖4.29 未封孔硫酸法陽極處理溫度之動電位極化曲線圖 72
圖4.30 未封孔硫酸法陽極處理濃度之動電位極化曲線圖 73
圖4.31 未封孔硫酸法陽極處理電壓之動電位極化曲線圖 74
圖4.32 添加不同SSA量之動電位極化曲線測試 76
圖4.33 添加SSA之動電位極化曲線測試 76
圖4.34 不同電壓硫酸/SSA之動電位極化曲線測試 77
圖4.35 封孔前後之動電位極化曲線測試 78
圖4.36 硫酸法陽極氧化溫度之鋁片重量與溶膜時間關係圖 80
圖4.37 硫酸法陽極氧化濃度之鋁片重量與溶膜時間關係圖 80
圖4.38 硫酸法陽極氧化電壓之鋁片重量與溶膜時間關係圖 81
圖4.39 添加不同含量SSA溶膜試驗圖 83
圖4.40 硫酸/SSA混合酸不同電壓溶膜試驗圖 83圖4.41 硫酸/SSA混合酸陽極氧化膜之FT-IR全譜圖分析 86
圖4.42 陽極氧化膜之FT-IR分析，(a)硫酸法陽極處理，(b)添加10 g/L的SSA，(c)添加30 g/L的SSA，(d)添加50 g/L的SSA 86圖4.43 硫酸法鋁陽極氧化膜表面EDX圖 88圖4.44 添加10 g/L的SSA鋁陽極氧化膜表面EDX圖 88
圖4.45 添加30 g/L的SSA鋁陽極氧化膜表面EDX圖 89圖4.46 添加50 g/L的SSA鋁陽極氧化膜表面EDX圖 89圖4.47 添加30 g/L的SSA鋁陽極氧化膜截面EDX圖 90
圖 4.48 氧化鋁膜XRD分析圖(A)硫酸法鋁陽極氧化膜(未去除鋁基材)，(B) 硫酸法鋁陽極氧化膜(去除鋁基材)，(C)SSA/硫酸鋁陽極氧化膜(去除鋁基材) 91











表目錄
表 2.1 優選的色彩膜操作條件 21
表 3.1 純鋁化學拋光液組成 32
表 3.2 硫酸法陽極處理30分鐘之操作參數 33
表 3.3 硫酸/磺基水楊酸混合酸法陽極處理30鐘之操作參數 34
表 4.1 化學拋光前後表面粗糙分析結果 44
表 4.2 不同溫度之動電位極化曲線測試結果 72
表 4.3 不同濃度之動電位極化曲線測試結果 73
表 4.4 不同電壓之動電位極化曲線測試結果 74
表 4.5 不同SSA添加量之動電位極化曲線測試結果 77
表 4.6 添加SSA不同電壓之動電位極化曲線測試結果 77
表 4.7 封孔前後之動電位極化曲線測試結果 78
表 4.8 硫酸法鋁陽極氧化之溶膜試驗結果 82
表 4.9 硫酸/SSA混合酸法鋁陽極氧化之溶膜試驗結果 84

1. 吳樹森，&;quot;鋁、鎂合金熔煉與形成加工技術&;quot;，機械工業出版社(2012)。
2. Aluminum Company of America,&;quot;Aluminum&;quot;,Metals Park,Ohio:American Society for Metals(1967).
3.蘇國祥，&;quot;鋁表面處理與應用&;quot;，朝陽科技大學，應用化學研究所 碩士論文(2006)。
4. 煌奇松，&;quot;鋁的陽極氧化和染色&;quot;，萬里書店出版(1988)。
5. 楊聰仁，&;quot;無電鍍鎳及其應用&;quot;，國彰出版社(1987)。
6. Cai-Ling Xu, &;quot;Electrodeposition of ferromagnetic nanowire arrays on AAO/Ti/Si substrate for ultrahigh-density magnetic storage devices&;quot;, Materials Letters,60,2335–2338 (2006).
7. S.W. Lin, &;quot;Fabrication and magnetic properties of nickel nanowires&;quot;, Journal of Magnetism and Magnetic Materials,282,28–31(2004).
8. P. K. Nahar, &;quot;Study of the performance degradation of thin film
aluminum oxide sensor at high humidity&;quot;, Sensors and Actuators, B:
Chemical, 63,49-54(2000).
9. 黃奇松，&;quot;鋁及其合金表面處理&;quot;，五洲出版社(1980)。
10.王婷婷，&;quot;鋁材於添加不同種類有機酸於硫酸電解液中陽極處理後電解著色&;quot;，大同大學，化學工程研究所 碩士論文(2008)。
11 . British Anodizing Association, &;quot;Architectural anodizing: sulphuric acid anodic film quality&;quot;(1981).
12. 李建璋，&;quot;鋁材於添加5-磺基水楊酸之硫酸溶液中陽極處理再電解著色之研究&;quot;，大同大學化學工程研究所 碩士論文(2007)。
13. Henley, V.F., &;quot;Anodic oxidation of aluminium and its alloys&;quot;, Pergamon Press (1982).
14.H. Masuda, F. Hasegawa, and S. Ono, &;quot;Self-ordering of cell
arrangement of anodic porous alumina formed in sulfuric acid
solution&;quot;, J. Electrochem. Soc. Vol. 144, No.5 (1997).
15. A.P. Li, F. Muller, A. Birner, K. Nielsch, and U. Gosele, &;quot;Hexagonal porearrays with a 50-420 nm interpore distance formed by self-organization in anodic alumina&;quot;, J. Appl.Phys,84 ,6023–6026(1998).
16. H. Masuda. H. Yamada, M. Satoh, H. Asoh, M. Nakao, T. Tamaura, &;quot;Highly ordered nanochannel-array architecture in anodic alumina&;quot;, Appl. Phys. Lett.,71,2770 (1997).
17.尤光先，&;quot;鋁陽極處理技術&;quot;，科學圖書大庫(1983)。
18. Re-Long Chiu, Peng-Heng Chang, Chih-Hang Tung,&;quot;The effect of anodizing temperature on anodic oxide formed on pure Al thin films&;quot; ,Thin Solid Films, 260, 47-53(1995).
19. C. Wood, J.P. O’Sullivan, B. Vaszko, &;quot;The direct observation of barrier layers in porous anodic oxide films&;quot;, J. Electrochem. Soc, 115, 618.4(1968).
20. G.C. Wood and J.P. O’Sullivan, &;quot;Electron-optical examination of sealed anodic alumina films: Surface and Interior Effects&;quot;, J. Electrochem .Soc, 116 ,1351(1969).
21. Parkhutik, V.P. and Shershulsky,&;quot; Theoretical modelling of porous oxide growth on aluminium&;quot;, J. Phys. D. Appl. Phys, 25, 1258 (1992)
22. D.A. Brevnov, G.V.R. Rao, G.P. Lopez, P.B. Atanassov, &;quot;Dynamics
and temperature dependence of etching processes of porous and barrier aluminum oxide layers&;quot;, Electrochimica Acta, 49 ,2487-2494(2004).
23. G.E. Thompson, &;quot;Porous anodic alumina: fabrication, characterization and applications&;quot;, Thin solid film, 297, 192(1997).
24. O. Jessensky, F. Muller, U. Gosele, &;quot;Self-organized formation of hexagonal pore arrays in anodic alumina&;quot;, Appl. Phys. Lett., 72,
1173–1175 (1998).
25. K. Shimizu, K. Kobayashi, G. E. Thompson, G. C. Wood, &;quot;Development of porous anodic films on aluminum&;quot;, Phil. Mag.A,Vol. 66, pp. 643–652 (1992).
26. 吳翰英，&;quot;化學拋光對於7075-T6鋁合金陽極膜層影響之研究&;quot;，大同大學化學工程研究所 碩士論文(2011)。
27. C.C. Chen, J.H. Chen and C.G. Chao,&;quot;Post-treatment method of
producing ordered array of anodic aluminum oxide using general
purity commercial (99.7%) aluminum&;quot;, Jpn. J. Appl. Phys, 44, 1529-1533 (2005).
28. S. Wernick, R. Pinner, P.G. Sheasby, &;quot;The surface treatment and finishing aluminum and its alloys&;quot;, ASM International ,6th ed (1987).
29. Bengough G.D. and Stuart,&;quot;The anodic oxidation of aluminum and its alloys as a protection against corrosion&;quot;, J.M., Brit. Pat. 223,994 (1923).
30. C. L. Liao , C.W. Chu, K.Z. Fung, I.C. Leu,&;quot;Fabrication of nanoporous metal electrode by two-step replication technique&;quot;,Journal of Alloys and Compounds,441,1-6 (2007).
31.M. Tang, J. He, J. Zhou, P. He,&;quot;Pore-widening with the assistance of ultrasonic: A novel process for preparing porous anodic aluminum oxide membrane&;quot;, Materials Letters, 60 ,2098-2100 (2006).
32. Hideki Masuda, Kouichi Yada and Atsushi Osaka,&;quot;Self -ordering of cell configuration of anodic porous alumina with large-size pores in phosphoric acid solution&;quot;, Jpn. J. Appl. Phys., 37, 1340-1342 (1998).
33.昌增榮，&;quot;鋁箔膜陽極處理多孔性氧化層結構之特性研究&;quot;，成功大學，機械工程研究所 碩士論文 (2005)。
34. DU Nan, WANG Shuai-xing,&;quot;Effects of boric acid on microstructure and corrosion resistance of boric/sulfuric acid anodic film on 7050 aluminum alloy&;quot;, Trans. Nonferrous Met. Soc. China 22,1655 -1660. (2012).
35. M. Curioni, P. Skeldon ,&;quot;Role of tartaric acid on the anodizing and corrosion behavior of AA2024 T3 aluminum alloy&;quot;, J. Electrochem. Soc, 156 -4- C147-C153 (2009).
36. V. Marzocchi , G.E.Thompson,&;quot;The influence of tartaric acid additionon the anodizing behaviour of AA2024-T3 alloy in sulphuric acid&;quot; ,J. Electrochem. Soc, 156 -4- C147-C153 (2009).
37. V. Marzocchi , G.E.Thompson, &;quot;FE-SEM and EIS study of sealed AA2024 T3 anodized in sulfuric acid electrolytes: Influence of tartaric Acid&;quot; , J. Electrochem. Soc, 155 -11- C521-C529 (2008).
38. W. Bensalah,&;quot;Chemical dissolution resistance of anodic oxide layers formed on aluminum&;quot;,Trans Nonferrous Met Soc China21,
1673-1679 (2011).
39. Andrus, J.M., Proc. American Electroplaters’ Soc, 44, 143-46,(1957)
40. Jenny, A., &;quot;Anodic oxidation of aluminium&;quot;, Chemical Publishing Company (1940).
41.何浩邦，&;quot;鋁材於添加5-磺基水楊酸之硫酸溶液中二次陽極處理再電解著色”大同大學，材料工程研究所 碩士論文 (2008)。
42.李建璋，&;quot;鋁材於添加5-磺基水楊酸之硫酸溶液中陽極處理再電解著色之研究&;quot;大同大學，材料工程研究所 碩士論文 (2007)。
43. V. Lopez, M.J. Bartolome, E. Escudero, E. Otero, and J.A. Gonzalez, &;quot;Comparison by SEM, TEM, and EIS of hydrothermally sealed and cold sealed aluminum anodic oxides&;quot;, J. Electrochem. Soc., 153 B75-B82 (2006).
44.F. Snogan, C. Blanc, G. Mankowski, N. Pebere, &;quot;Characterization of sealed anodic films on 7050 T74 and 2214 T6 aluminum alloys&;quot;, Surface and Coatings Technology, 154 .94-103 (2002).
45. Y. Zuo, P.H. Zhao, J.M. Zhao, &;quot;The influences of sealing methods on corrosion behavior of anodized aluminum alloys in NaCl solutions&;quot;, Surface and Coatings Technology, 166 .237-242 (2003).
46.田智宏，&;quot;草酸法鋁陽極氧化膜封孔之研究&;quot;，逢甲大學，材料工程研究所 碩士論文 (2008)。
47.張裕祺，&;quot;表面處理&;quot;，高立圖書有限公司(1990)。
48.蔡松霖，&;quot;鋁片二次陽極處理後電解著色之研究&;quot;，大同大學，材料工程研究所 碩士論文 (2006)。
49. W.B. Kim, T.Y. Seong, &;quot;Electrochemical capacitors fabricated with carbon nanotubes grown within the pores of anodized aluminum oxide templates&;quot;,Electrochemistry Communications, 8.513-516 (2006).
50. S.Z. Chu, K. W., S. Inoue, and S.-I. Todoroki, &;quot;Synthesis and
characterization of titania nanostructures on glass by Al anodization and Sol-Gel process&;quot;, Chem. Mater.,14, 266-272 (2002).
51. C.Y. Liu, A. Datta, and Y.L. Wang, &;quot;Ordered anodic alumina nanochannels on focused-ion-beam-prepatterned aluminum surfaces&;quot;, Appl. Phys. Lett., 78 ,120-122 (2001).
52. Y.L. Tai and H. Teng, &;quot;Template synthesis and electrochemical
characterization of nickel-based tubule electrode arrays&;quot;, Chem. Mater, 16 ,338-342 (2004).
53. Y. Zuo, Y. Zhao, X. Li, N. Li, X. Bai, S. Qiu, W. Yu, &;quot;Synthesis of alumina nanowires and nanorods by anodic oxidation method&;quot;, Materials Letters 60 ,2937-2940 (2006).
54. A. Saedi, M. Ghorbani, &;quot;Electrodeposition of Ni-Fe-Co alloy nanowire in modified AAO template&;quot;, Materials Chemistry and Physics, 91 417-423 (2005).
55. Y.C. Kong,, D.P. Yu, B. Zhang, W. Fang, and S.Q. Feng, &;quot;Ultraviolet-emitting ZnO nanowires synthesized by a physical vapor deposition approach&;quot;, Appl. Phys. Lett., 78, 407-409 (2001).
56. M.F. Morks , Abdel Salam Hamdy , N.F. Fahim , M.A. Shoeib,&;quot; Growth and characterization of anodic film on aluminum alloys in 5-sulfosalic acid solution&;quot; Surface &; Coatings Technology 200, 5071 – 5076 (2006).
57. Yang Yang, Qiuming Gao, &;quot;Influence of sulfosalicylic acid in the electrolyte on the optical properties of porous anodic alumina membranes&;quot; ,Physics Letters ,A 333. 328–333 (2004).
58. MA Song-jiang,&;quot;Preparation of anodic films on 2024 aluminum alloy in Boric acid containing mixed electrolyte&;quot;, Surface &; Coatings Technology ,200 ,5071 – 5076 (2006).
59. 方胤証，&;quot;以陽極氧化鋁模版製作鎳磷奈米線研究&;quot;， 逢甲大學材料科學與工程學所 碩士論文 (2009)。
60.呂人華，&;quot;鋁材於添加5-磺基水楊酸之硫酸溶液中三次陽極處理後電解著色成效之研究，大同大學材料科學與工程學所 碩士論文 (2010)。
61.莊東漢，&;quot;材料分析與測試實驗&;quot;，五南圖書出版社(2006)。
62.汪建民主編，&;quot;材料分析&;quot;，中國材料科學學會，第121–122頁(1998)。
63. Neda Gilani,&;quot;Investigation of H2S separation from H2S/CH4 mixtures using functionalized and non-functionalized vertically aligned carbon nanotube membranes&;quot;, Applied Surface Science 270 115– 123 (2013).