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研究生:林士福
研究生(外文):Shih-fu Lin
論文名稱:灰關聯分析應用於薄膜製程最佳化之研究
論文名稱(外文):Plating Film Process Optimization with Grey Relational Analysis
指導教授:陳源樹陳源樹引用關係
指導教授(外文):Yuan-shu Chen
學位類別:碩士
校院名稱:逢甲大學
系所名稱:工業工程與系統管理學研究所
學門:工程學門
學類:工業工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2006
畢業學年度:94
語文別:中文
論文頁數:57
中文關鍵詞:灰關聯分析多重品質特性薄膜製程田口方法
外文關鍵詞:Grey relationamultiple quality characteristics
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本研究以結合田口方法與灰關聯分析的「田口灰關聯法」,解決多重品質特性的製程最佳化問題。
以光學工廠的薄膜製程為個案,先就四個製程可控因子:製鍍氣壓、基板溫度、蒸發速率、退火溫度;實施二水準直交表實驗,取得三個品質特性數據。再就三個品質特性:平均折射率、平均消光係數、表面粗糙度;以灰關聯分析獲得結論(1)四個薄膜製程因子中,基板溫度與蒸發速率顯著影響三個品質特性。(2)最佳化三個品質特性的薄膜製程因子水準為基板溫度300℃與蒸發速率3Å/S。
The objective of this paper is to search the optimal process parameters level by the Taguchi method with Grey relational analysis.
This model would benefit the thin film industry who seeks the practical quality engineering technology of the best parameter level when it faces the requirements of a multi-response. In this thesis, L8(27) orthogonal array was used to plan experiment and to acquire data for the optical properties(working pressure, substrate temperature, deposition rate and annealing temperature). For process of the thin film, the overall process quality to achieve three quality characteristics including mean refractive index, mean extinction coefficient, and surface roughness were discovered by Grey Relational Analysis in light of overall process quality consideration. The results show that (1) substrate temperature and deposition rate are apparent to influence the three quality characteristics. (2) substrate temperature 300(℃) and the deposition rate 3(Å/S) are the best parameter level。
誌謝 i
摘要 ii
Abstract iii
目錄 iv
表目錄 vi
圖目錄 vii
第一章 緒論 - 1 -
1.1 前言 …………………………………………………………….…………………...- 1 -
1.2 研究動機與目的 …………………………………….……………………………...- 1 -
1.3 研究架構 ……………………………………………………………………………- 2 -
第二章 田口灰關聯法及相關文獻探討 - 5 -
2.1 田口直交表 …………………………………………………………………………- 5 -
2.1.1 直交表種類 - 5 -
2.1.2 直交表之因子配置 - 7 -
2.2 品質損失函數與訊號雜訊比 ………………………………………………………- 9 -
2.2.1 品質損失函數 - 9 -
2.2.2 信號雜訊比 - 12 -
2.3 灰關聯分析 ………………………………………………………………………..- 14 -
2.3.1 基本概念 - 14 -
2.3.2 灰關聯分析 - 14 -
2.4 多重品質特性最佳化演算步驟 …………………………………………………..- 18 -
2.5 多重品質特性製程最佳化參考文獻 ……………………………………………..- 23 -
第三章 薄膜製程 - 28 -
3.1 薄膜加工流程 ……………………………………………………………………..- 28 -
3.2 探討影響薄膜光學常數(折射率及消光係數)與表面粗糙度的因素 ……….......- 31 -
3.3 離子源輔助沉積法 ………………………………………………………………..- 33 -
3.4 實驗設備 …………………………………………………………………………..- 35 -
3.4.1 真空鍍膜機 - 35 -
3.4.2 熱風循環烤箱 - 37 -
3.4.3 紫外/可見/近紅外光譜儀 - 38 -
3.4.4 超微細表面形狀測定儀 - 38 -
第四章 薄膜製程實驗分析與結果 - 39 -
4.1 實驗製程簡介 ……………………………………………………………………..- 39 -
4.2 薄膜製程實驗因子與品質特性 …………………………………………………..- 40 -
4.3 實驗數據 ……………………….………………………………………………….- 42 -
4.4 灰關聯度的計算 ………….……………………………………………………….- 43 -
4.5 判斷顯著效應 ……………………………………………………………………..- 47 -
4.6 最佳水準的決定與反應曲面方程式 ……………………………………………..- 50 -
第五章 結論 - 53 -
5.1 分析結果 ……….………………………………………………………………….- 53 -
5.2 後續研究方向 …………….……………………………………………………….- 54 -
參考文獻 - 55 -
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