臺灣博碩士論文加值系統

　　旋轉塗佈應用在半導體製程工業上以非常普遍．因為它能以較快且較
簡單的方式，把光阻液均勻的塗佈在晶片上． 旋轉塗佈的研究早在１
９５８年就已經開始．但是對於影想塗佈的一些次級因素，卻仍然處於開
始的階段．對於旋轉塗佈誘導氣流所引起的風剪效應仍指限於Cochran 所
提供的一個解，有者甚至直接把風剪效應忽略掉．　　把風剪效應忽略掉
對於一個較厚的塗膜來說也許是可行的，但是對於一個較薄的塗膜來說，
風剪的效應卻可能導致不同的結果，更紊亂的外圍氣流流場會導致風剪應
力對薄膜的均勻度，質傳量及塗佈時間等造成不同的影響．　　而由於
Cochran〞爾悇O假設外圍誘導氣流在一自由面及一無限長的高速旋轉板面
所得到的結果．所以，對於應用在一個實際的旋轉塗佈機台內，有外圍遮
蔽且有長的晶面來說也許不是很恰當．　　我們的研究著重在不同的外圍
遮蔽寬度及中心軸的突起塊對誘導氣流的影響，進而探討因此導致的風剪
效應之改變，以作為以後研究，尤其是對於更薄的旋轉塗佈厚度研究的一
個參考． 研究結果顯示，因誘導氣流所導致的剪應力有別於Cochran
的結論，尤其在相對上遮蔽與圍壁甚小於半徑及有中心突起塊的狀況下，
剪應力在兩個邊界上有顯著的不同．因此，剪應力有必要再重新估計．

The process of spin coating has been extensively
studied. However,to our knowledge, all studies related has
either neglected or just appliedCochran's solution for the shear
stress at the interface between the over-lying gas and the film
surface. It is suitable when applied to a spin coaterunder free
space and an infinite disk. However, for a real model where
thereis an enclosure or a hub and a finite radius is taken into
account, shearstress may differ from that of Cochran's solution.
This study intends to in-investigate the effect of the
enclosure, as well as, a hub on the shear stress . Results show
the distribution of shear stress along the disk may not alike
that of Cochran's solution, and may have to be re-evaluated.