|
1.Pope, M.; Kallmann, H.; Magnante, P. J. Chem. Phys. 1963, 38, 2042-2043. 2.Shirakawa, H.; Louis, E.-J.; MacDiarmid, A.-G.; Chiang, C.-K.; Heeger, A.-J. J. Chem. Soc. Chem. Commun.1977, 16, 578. 3.Hirakata, H.; Louis, E.-J.; MacDiarmid, A.-G.; Chiang, C.-K.; Heeger, A.-J. J. Chem. Soc. 1977, 39, 578. 4.Voss, D. Nature 2000, 407, 442. 5. Zaumseil, J.; Friend, R. H.; Sirringhaus, H. Nat. Mater. 2006, 5, 69. 6.Jurchescu, D.; Popinciuc, M.; van Wees, B.-J.; Palstra, T.-T.-M. Adv. Mater. 2007, 19, 688 . 7.Braga, D.; Horowitz, G. Adv. Mater. 2009, 21, 1473. 8.Newman, C.-R.; Frisbie,C.-D.; Filho, D.-A.; Bre´das, J.-L.; Ewbank, P.-C. Mann, K.-R. Chem. Mater. 2004, 16, 4436. 9.Brédas, J. L.; Beljonne, D.; Coropceanu, V.; Cornil, J. Chem. Rev. 2004, 104, 4971. 10.Bao, Z. Materials Today, 2004, 20, 20. 11.Ganrnier, F. Synth. Met. 1992, 51, 419. 12.Gundlach, D. J.; Lin, Y. Y.; Jackson, T. N.; Nelson, S. F.; Schlom, D. G. IEEE Electron Device Let. 1997, 18, 87. 13.Lin, Y. Y.; Gundlach, D. J.; Nelson, S. F.; Jackson, T. N. IEEE Electron Device Letters 1997, 18, (12), 606. 14.Oana, D. J.; Mihaita, P. Bart, J. van W.; Thomas, T. M. P. Adv. Mater. 2007, 19, 688. 15.Sundar, V. C.; Zaumseil, J.; Podzorov, V.; Menard, E.; Willett, R. L.; Someya, T.; Gershenson, M. E.; Rogers, J. A. Science. 2004, 303, 1644. 16.Xiaowei, Z.; Antonio, F.; Stephen, B.; Tobin, J. M.; Mark, A. R.; Michael, R. W.; Seth, R. M. Adv. Mater. 2011, 23, 268. 17.Chang, Y. C.; Kuo, M. Y.; Chen, C. P.; Lu, H. F.; Chao, I. J. Phys. Chem. C 2010, 114, (26), 11595. 18.Usta, H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J. Acc. Chem. Res. 2011, 44, 501. 19.Dodabalapur, A.; Laquindanum, J. G.; Katz, H. E.; Bao, Z. Appl. Phys. Lett., 69, 4227, 1996. 20.Shukla, D.; Nelson, S. F.; Freeman, D. C.; Rajeswaran, M.; Ahearn, W. G. Meyer, D. M.; Carey, J. T. Chem. Mater. 2008, 20, 7486. 21.Horowitz, G.; Kouki, F.; Spearman, P.; Fichou, D.; Nogues, C.; Pan, X.; Garnier, F. Adv. Mater. 1996, 8, 242-255. 22.Chesterfield, R. J.; McKeen, J. C.; Newman, C. R.; Ewbank, P. C.; Silva, D. A. D.; Bredas, J. L.; Miller, L. L.; Mann, K. R.; Frisbie, C. D. J. Phys. Chem. B. 2004, 108, 19281. 23.Newman, C. R.; Frisbie, C. D.; Filho, D. A. da Silva; Brédas, J. L.; Ewbank,P. C.; Mann, K. R. Chem. Mater., 2004, 16 (23), 4436. 24.Oh, J. H.; Schmidt, R.; Liu, S.; Würthner, F.; Bao, Z. Appl. Phys. Lett., 2007, 91, 07. 25.Dong, H.; Fu, X.; Liu, J.; Wang, Z.; Hu, W. Adv. Mater. 2013, 25, 6158. 26.Wang, Y.; Lieberman, M. Langmuir. 2003, 19, 1159. 27.Chua, L.L.; Zaumseil, J.; Chang, J.F.; Ou, E. C. W.; Ho, P. K. H.; Sirringhaus, H.; Friend, R.H. Nature 2005, 434, 194. 28.http://www.slideshare.net/seta667/hints-elfos-forslideshare 29.http://www.nadetech.com/index.php/en/technologies 30.http://ieeexplore.ieee.org/stamp/stamp.jsp?arnumber=7235903 31.Zhang, Z.; Peng, B.; Ji, X.; Pei, K.; Chan, P. K. L. Adv. Funct. Mater. 2017, 27, 1703443 32.Minemawari, H.; Yamada, T.; Matsui, H.; Tsutsumi, J.; Haas, S.; Chiba, R.; Kumai, R.; Hasegawa, T. Nature. 2011, 475, 364. 33.Quinton, C.; Marder, S. R. Phys. Chem. Chem. Phys., 2014, 16, 19345. 34.Xu, S. Ai, N.; Zheng, J.; Zhao, N.; Lan, Z.; Wen, L.; Wang, X.; Pei, J.; Wan, X. RSC Adv., 2015, 5, 8340. 35.Dhondge, A. P.; Chen, J. Y.; Lin, T.; Yen, F. M.; Li, K. W.; Hsieh, H. C.; Kuo, M. Y. Org. Lett. 2018, 20, 40. 36.Zhao, Y;. Guo, Y.; Liu, Y. Adv. Mater. 2013, 25, 5373.
|