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研究生:

謝明燈

論文名稱:

電漿輔助化學氣相沉積之低溫矽磊晶成長

論文名稱(外文):

Low temperature silicon epitaxial growth by plasma enhanced chemical vapor deposition

指導教授:

李嘉平

指導教授(外文):

Yuan-Ching Ko ; Yi-Chang Lin

學位類別:

博士

校院名稱:

國立台灣工業技術學院

系所名稱:

化學工程技術研究所

學門:

工程學門

學類:

化學工程學類

論文種類:

學術論文

論文出版年:

1993

畢業學年度:

語文別:

中文

論文頁數:

137

相關次數:

被引用:0
點閱:880
評分:
下載:0
書目收藏:0

中文摘要
英文摘要
誌謝
目錄
圖表說明
表目錄
第一章緒論
第二章實驗
2.1 緒論
2.2 電漿輔助化學氣相沉積系統
2.3 實驗流程
第三章不銹鋼孔網之效益
3.1 前言
3.2 結果
3.3 討論
3.4 結論
第四章反應機構與動力模式探討
4.1 文獻回顧
4.2 結果
4.3 討應
4.4 結論
第五章磊晶層之品質
5.1 緒論
5.2 結果
5.3 討論
5.4 結論
第六章結論
參考文獻
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