|
1. Shockley, W. Bell Syst. Tech. J., 1949, 28, 435. 2. Kahng, D.; Atalla, M. IRE-IEEE Solid-State Device Research Conference, Pittsburgh, PA, 1960, U.S. Patent 3, 102, 230. 3. Kilby, J. S. IEEE Trans, Electron Devices ED-23, 1976, U.S. Patent 3, 138, 743. 4. Rogers, J. A.; Bao, Z.; Baldwin, K.; Dodabalapur, A.; Crone, B.; Raju, V. R.; Kuck, V.; Katz, H.; Amundson, K.; Ewing, J.; Drzaic, P. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2001, 98, 4835. 5. Sirringhaus, H.; Kawase, T.; Friend, R. H. MRS Bull. 2001, 26, 539. 6. Lee, S.; Koo, B.; Park, J. G.; Moon, H.; Hahn, J.; Kim, J. M. MRS Bull. 2006, 31, 455. 7. Tee, B.; Wang, C.; Allen, R.; Bao, Z. Nature Nanotechnology 2012, 7, 825. 8. http://www.digitimes.com.tw/tw/rpt/rpt_show.asp?v=20091028-421 9. Zaumseil, J.; Sirringhaus, H. Chem. Rev. 2007, 107, 1296. 10. (a) Lin, Y.-Y.; Gundlach, D.J.; Nelson, S. F.; Jackson, T. N. IEEE Transactions on Electron Devices, 1997, 44, 1325-1331. (b) Schon, J.H.; Kloc, Ch.; Batlogg, B. Organic Electronics, 2000, 1, 57. (c) Jurchescu, O. D.; Popinciuc, M.; Van Wees, B. J.; Palstra, T. T. M. Adv. Mater. 2007, 19, 688. 11. Richard S. Muller, Theodore I. Kamins, Mansun Chan. 半導體元件物理。羅正中、龔正譯。 台北縣新店市:學銘圖書, 2007. 12. Sun, Y.-M.; Liu, Y.-Q.; Zhu, D.-B. Chem. Mater. 2005, 15, 53. 13. http://en.wikipedia.org/wiki/Electrical_resistance 14. Troisi, A.; Orlandi, G. J. Phys. Chem. A. 2006, 110, 4065. 15. Le Comber, P. G.; Spear, W. E. Phys. Rev. Lett. 1970, 25, 509. 16. Horowitz, G.; Hajlaoui, M. E.; Hajlaoui, R. J. Appl. Phys. 2000, 87, 4456. 17. Coropceanu, V.; Cornil, J.; de Silva Filho, D. A. ; Olivier, Y.; Silbey, R.; Bredas, J. L. Chem. Rev. 2007, 107, 926. 18. Troisi, A.; Orlandi, G. Phys. Rev. Lett. 2006, 96, 086601. 19. Horowitz, G. Adv. Mater. 1998, 10, 365. 20. Sze, S. M. “Physics of Semiconductor Devices” 1987, J. Wiley &; Sons. 21. Schottky, W. Z. Phys. 1939 , 113 , 367. 22. Schottky, W. Naturwissenschaften 1938 , 26 , 843. 23. Mott, N. F. Proc. R. Soc. London, Ser. A. 1939 , 171 , 27. 24. Facchetti, A.; Yoon, M. H.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2005, 17, 1705. 25. Klauk, H.; Gundlach, D. J.; Nichols, J. A.; Jackson, T. N. IEEE Trans. Electron Devices 1999, 46, 1258. 26. Majewski, L. A.; Schroeder, R.; Grell, M. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3620. 27. Ishii, H.; Sugiyama, K.; Ito, E.; Seki, K. Adv. Mater. 1999, 11, 605. 28. Dholakia, G. R.; Meyyappan, M.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Nano Lett. 2006, 6, 2447. 29. Martin W. J. Appl. Phys. 2012, 111, 054506. 30. Veres, J.; Ogier, S.; Lloyd, G.; de Leeuw, D. Chem. Mater. 2004, 16, 4543. 31. Dimitrakopoulos, C. D.; Malenfant, P. R. L. Adv. Mater. 2002, 14, 99. 32. Katz, H.; Bao, Z.; Gilat, S. Adv. Mater. 2002, 14, 99. 33. De Leeuw, D. M.; Simenon, M. M. J.; Brown, A. R.; Einerhand, R. E. F. Synth. Met. 1997, 87, 53. 34. Facchetti, A.; Yoon, M. H.; Stern, C. L.; Hutchison, G. R.; Ratner, M. A.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 13480. 35. Cheserfield, R. J.; Newman, C. R.; Pappenfus, T. M.; Ewbank, P. C.; Haukass, M. H.; K. R.; Miller, L. L.; Frisbie, C. D. Adv. Mater. 2003, 15, 1278. 36. Meijer, E. J.; de Leeuw, D. M.; Setayesh, S.; Veenendaal, E.; Huisman, B. -H.; Blom, P. W. M.; Hummelen, J. C.; Scherf, U.; Klapwijk, T. M. Nature Materials 2003, 2, 678. 37. Gao, X.; Di, C. -A.; Hu, Y. -B.; Yang, X. -D.; Fan, H. -Y.; Zhang, F.; Liu, Y. -Q.; Li, H.-X.; Zhu, D. -B. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 3697. 38. Wang, G.-M.; Swensen, J.; Moses, D.; Heeger, A. J. J. Appl. Phys. 2003, 93, 6137. 39. Jurchescu, O. D.; Popinciuc, M.; Van Wees, B. J.; Palstra, T. T. M. Adv. Mater. 2007, 19, 688. 40. Park, S. K.; Jackson, T. N.; Anthony, J. E.; Mourey, D. A. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 063514. 41. Zhang, Y. -J.; Dong, H. -L.; Tang, Q. -X.; He, Y.-D.; Hu,W. -P. J. Mater. Chem. 2010, 20, 7029. 42. Shukla, D.; Nelson, S. F.; Freeman, D. C.; Rajeswaran, M.; Ahearn, W. G. ; Meyer, D. M.; Carey, J. T. Chem. Mater. 2008, 20, 7486. 43. Haddon, R. C.; Perel, A. S.; Morris, R. C.; Palstra, T. T. M.; Hebard, A. F.; Fleming, R. M. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 121. 44. Facchetti, A.; Mushrush, M.; Yoon, M. H.; Hutchison, G. R.; Ratner, M. A.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 13859. 45. Sirringhaus, H.; Brown, P. J.; Friend, R. H.; Nielsen, M. M.; Bechgaard, K.; Langeveld-Voss, B. M. W.; Spiering, A. J. H.; Janssen; R. A. J., Meijer, E. W.; Herwig, P.; De Leeuw D. M. Nature 1999, 401, 685. 46. Hamadani, B. H.; Gundlach, D. J.; McCulloch, I.; Heeney, M. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 243512. 47. Chen, H.; Guo, Y.; Yu, G.; Zhao, Y.; Zhang, J.; Gao, J.; Liu, H.; Liu, Y. Adv. Mater. 2012, 24, 4618. 48. Huang, H.; Chen, Z.; Ortiz, R. P,; Newman, C.; Usta, H.; Lou, S.; Youn, J.; Noh, Y. Y.; Baeg, K. J.; Chen, L. X.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 10966. 49. Park, J. H.; Jung, E. H.; Jung, J. W.; Jo, W. H.; Adv. Mater. 2013, 25, 2583. 50. Lei, T.; Dou, J. -H.; Ma, Z. -J.; Yao, C.-H.; Liu, J. -C.; Wang, J. -Y.; Pei. J. J. Am. Chem. Soc. 2013, 134, 20025. 51. Tsumura, A.; Koezuka, H.; Ando, T. Appl. Phys. Lett. 1986, 49, 1210. 52. Assadi, A.; Svensson, C.; Willander, M.; Inganas, O. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 195. 53. Ong, B. S.; Wu, Y.; Liu, P.; Gardner, S. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 3378. 54. Roncali, J. Macromol. Rapid Commun. 2007, 28, 1761. 55. Zhou, H.; Yang, L.; Stuart, A. -C.; Price, S. -C.; Liu, S.; You, W. Angew. Chem. Int. Ed. 2011, 50, 2995. 56. Bronstein, H.; Frost, M. J.; Hadipour, A.; Kim, Y.; Nielsen, C. B.; Ashraf, S. R.; Rand, B. P.; Watkins, S.; McCulloch, I. Chem. Mater. 2013, 25, 277. 57. Jheng, J. -F.; Lai, Y. -Y.; Wu, J. -S; Chao, Y. -H.; Wang, C. -L.; Hsu, C. -S. Adv. Mater. 2013, 25, 2445. 58. Lim, B.; Baeg, K. -J.; Jeong, H. -G.; Jo, J.; Kim, H.; Park, J. -W.; Noh, Y. -Y.; Vak, D.; Park, J. -H.; Park, J. -W.; Kim, D. -Y. Adv. Mater. 2009, 21, 2808. 59. Jen, K. -Y.; Maxfield, M. R. ; Shacklette, L. W. R.; Elsenbaumer, L. J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1987, 309. 60. Sun, S.-S. J. Mater. Sci., 2005, 40, 1429. 61. (a) Durban, M. M.; Kazarinoff, P. D.; Luscombe, C. K. Macromolecules 2010, 43, 6348. (b) Guo, X.; Kim, F.-S.; Seger, M. J.; Jenekhe, S. A.; Watson, M. D. Chem. Mater. 2012, 24, 1434. 62. Assadi, A.; Svensson, C.; Willander, M.; Inganas, O. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 195. 63. Mcculloch, I.; Ashraf, R. S.; Biniek, L.; Bronstein H.; Combe, C.; Donaghey, J. E.; James, D. I.; Nielsen, C. B.; Schroeder, B. C.; Zhang, W. -M. Accounts of Chemical Research 2012, 45, 714. 64. Cheng, Y. -J.; Chen, C. -H.; Lin, T. -Y.; Hsu, C. -S. Chem. Asian J. 2012 , 7, 818. 65. Bronstein, H.; Ashraf, R. S.; Kim, Y. -J.; White, J. P. A.; Anthopoulos, T.; Song, K.; James, D.; Zhang, W. -M.; McCulloch, I. Macromol. Rapid Commun. 2011 , 32 , 1664. 66. McMurry, J. E.; Fleming, M. P.; J. Am. Chem. Soc. 1974, 96, 4708. 67. Fan, J.; Yuen, J. D.; Cui, W.; Seifter, J.; Mohebbi, A. R.; Wang, M. F.; Zhou, H. Q.; Heeger, A. J.; Wudl, F. Adv. Mater. 2012, 24, 6164. 68. Jang, S. -Y.; Lim, B.; Yu, B. -K.; Kim, J.; Baeg, K. -J.; Khim, D. -Y.; Kim, D. -Y. J. Mater. Chem. 2011, 21, 11822. 69. Lei, T.; Dou, J.-H.; Pei, J. Adv. Mater. 2012, 24, 6457. 70. Mei, J.; Kim, D. -H.; Ayzner, A. L.; Toney, M. F.; Bao. Z. J. Am. Chem. Soc., 2011, 133, 20130.
|