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本篇論文內容在討論矽微壓電阻式加速度計之研究,文中包含結構與製
程, 詳細討論設計與製作加速度計時須考慮之種種因素.藉由簡單的電性
與機械理論考慮一加速度計之工作基本特性, 設計出元件的形狀與尺寸,
再利用半導體製程和化學濕蝕刻的方法來製作. 在蝕刻製程上包括有角落
補償與正面蝕刻溝槽的設計, 以得到理想的質塊形狀與懸臂結構, 這也是
元件製程上最重要的一步. 同時文中亦詳細討論製作失敗的原因與改進的
方法.實驗結果已成功的製作出加速度計, 其中在角落補償上, 我們得知
四方形罩幕要較三角形罩幕為優. 同時在懸臂製程方面需要注意到正面蝕
刻溝槽的寬度必須設計得寬些. 此外, 在壓阻的擺置與導線的佈局上也要
留意.蝕刻溶液我們經實驗比較考慮之後決定採用EDP,其最大原因是EDP蝕
刻後表面較平滑,且製程較簡便. 在初配製時為黃色透明液體, 但操作數
次之後由於與空氣接觸的結果顏色便會轉成暗褐色的, 妨礙蝕刻過程的的
觀察, 故必須時常更新. 若有氮氣迴流裝置將會改善這個問題.最後, 製
成後的成品本是欲與商用之加速度計相黏結 , 置於振盪器上來回振動,
再將所得之信號送入頻譜分析儀中分析, 與商用元件比較即得量測結果.
但由於在最初設計上並未詳細考慮到切割與包裝, 故在信號量測上產生相
當大的困難. 最後之電性結果是透過較簡便的方式測得無法得之其特性之
優劣, 僅能作為初步元件製作成功之證明. 若能在背面蝕刻光罩上加入蝕
刻切割槽, 相信將能解決這個問題.本論文中之章節安排依序為: 第一章
前言, 第二章結構設計, 第三章製程設計, 第四章結果與討論, 第五章結
論.
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