本研究合成一系列丙烯酸系與含三甲基矽單體之共合物，其實驗及是利用一般的自由
基共聚合方法，將含三甲基矽單體與具鹼性可溶基（羧酸基）之丙烯酸系單體在
50-70℃下行共聚合反應以合成一系列之含矽共聚物，並改變聚合條件以探討其影響
，其次，利用共聚物中的羧共基與鄰位（對位）硝基溴甲苯，在DUB存在下，於30℃
之DMSO中行酯化反應。經由上述程序合成之高分子，以紫外線光譜儀分析，在波長
260∼270mm左右有最大吸收，此乃硝基苯之吸收。
此感光性高分子經高壓汞燈照射後，最大吸收減弱，以紅外線光譜偵之，發現在波長
1530與1350cm處（硝基之吸收）有減弱之現象。利用照光反應前後之溶解度差異，可
將此感光性高分子應用於光阻劑範疇。
使用ORIEL曝光系統（500W之Hg-Xe lamp，波長220∼260nm）曝光，以Na2CO3 0.06wt
％水溶液為顯影液，可獲得解析度1.0um之正型影像。
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