臺灣博碩士論文加值系統

本論文以硼矽玻璃作為基板，以濺鍍方式鍍製不同厚度的二氧化鈦薄膜，在退火的過程中，利用在高溫低壓環境下，以電漿輔助化學氣相沉積系統，在電漿電源功率600W、製程氣體壓力為25torr及退火時間均為1分鐘的狀況下，並探討對材料結構、光穿透率與表面粗糙度特性的影響。並以UV-VIS-NIR光學測量儀器光譜儀，來分析其光學性質之變化。
經實驗結果及各項數據作分析、比較，在光學分析上，可見光穿透率97.58%下降至91.57%，而紅外線反射率由10.38%提升至13.37%。使得薄膜表面形貌因光學作用產生變化。
上述相關數據比較後，本次實驗經過真空退火處理後，可見光穿透率、紅外線反射率退火後製成與未經過退火後製成處理的成品，未發現有很大的光學變化。

In this thesis, borosilicate glass is used as the substrate, and different thicknesses of titanium dioxide film are deposited by sputtering. In the process of annealing, using plasma-assisted chemical vapor deposition system in high temperature and low pressure environment, the power of plasma power is 600W. The process gas pressure is 25 torr and the annealing time is 1 minute, and the effects on material structure, light transmittance and surface roughness characteristics are discussed. The UV-VIS-NIR optical measuring instrument spectrometer was used to analyze the change in optical properties.
Through the analysis and comparison of the experimental results and various data, in the optical analysis, the visible light transmittance decreased to 91.57%, and the infrared reflectance increased from 10.38% to 13.37%. The surface morphology of the film changes due to optical effects.
After the above-mentioned related data were compared, after the vacuum annealing treatment, the visible light transmittance and the infrared reflectance were annealed and the finished product was processed without being annealed, and no large optical change was observed.

中文摘要 i
英文摘要 ii
誌　謝 iii
目　錄 iv
圖目錄 vi
表目錄 viii
一、緒論 1
　1.1 前言 1
　1.2 研究動機 2
　1.3 相關文獻回顧 3
二、二氧化鈦光觸媒介紹 4
2.1 二氧化鈦結構簡介 4
2.2 二氧化鈦光催化原理 6
2.3 二氧化鈦親水性原理 7
三、實驗步驟 8
3.1 實驗流程 8
3.2 實驗流程圖 10
3.3 製程材料 11
3.4 基板清洗步驟 12
3.5 濺鍍TiO2薄膜 13
3.6 試片後處理與參數 14
3.6-1 真空退火處理 14
3.7 製程設備 15
3.7-1 水平連續式濺鍍機台 15
3.8 量測設備 16
3.8-1 原子力顯微鏡 16
3.8-2 紫外光/可見光光譜儀 17
3.8-3 接觸角量測儀 18
四、結果與討論 19
　4.1 TiO2薄膜表面粗糙度-原子力顯微鏡 19
　4.2 TiO2薄膜光學性質分析-紫外光/可見光光譜儀 21
　4.3 TiO2薄膜接觸角量測-接觸角量測儀 23
五、結論 25
六、參考文獻 26

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