臺灣博碩士論文加值系統

本論文述及三大應用研究範圍，分別是：(1)新型DVD-R記錄材料之開發；(2)染料之微波合成；(3)OLED元件研究，而研究的項目則包括：Styryl染料之開發、光變色Spirooxazine染料之微波合成以及上發光(top-emitting)OLED元件之研究。
在論文第二章中，已成功合成出四種新型DVD-R記錄材料─Styryl染料。透過分子設計，我們使四種染料分別具有不同之光、熱性質，以期達到DVD-R記錄材料之需求。
在論文第三章中，我們成功利用微波加熱方式，合成出光變色Spirooxazine染料，透過製程參數之探討，可獲得與傳統加熱方式不相上下之產率，而反應時間大幅縮短數十倍以上。
在論文第四章中，透過與交大陳金鑫教授之合作，成功開發出高效率、高色彩飽和度之上發光OLED元件，藉由全反射之銀/ITO以及半穿透之鈣/銀組合，製作出三原色（紅光、綠光及藍光）上發光OLED元件，另外，亦對上發光白光OLED元件之結構及模擬做一深入探討。

摘要 I
Abstract II
目錄 III
圖目錄 V
表目錄 IX
第一章 緒論 1
第二章 新型DVD-R記錄材料--Styryl染料之開發
2-1 前言及文獻回顧 5
2-2 研究動機 9
2-3 實驗藥品及所使用儀器 11
2-4 實驗方法 13
2-5 結果與討論 19
2-6 結論 24
2-7 參考文獻 25
第三章 染料之微波合成--以光變色Spirooxazine為例
3-1 微波簡介 48
3-2 微波化學及其發展 50
3-3 微波有機合成化學 52
3-4 光變色染料之介紹 54
3-5 研究動機 67
3-6 實驗藥品及所使用儀器 68
3-7 實驗方法 69
3-8 結果與討論 74
3-9 結論 81
3-10 參考文獻 82
第四章 上發光(Top-emitting)有機發光二極體之元件研究
4-1 有機電激發光二極體(OLED)之發展 102
4-2 上發光(Top-emitting)OLED之介紹及文獻回顧 116
4-3 研究動機 132
4-4 實驗方法 133
4-5 實驗藥品及所使用儀器 144
4-6 結果與討論 145
4-7 結論 161
4-8 參考文獻 162
第五章 總結 167
附錄 個人著作表 169

第二章 參考文獻
1. K. Compaan, Y. Havan, Proc. Intern. Symposium Transport Processes Statist. Mech., (1958) 414.
2. T. Yoshikatsu, Japanese Patent (1982) JP57198554.
3. K. Osamu, O. Minemasa, American Patent (1985) US4732844.
4. H. Emiko, Japanese Patent (1988) JP63179792.
5. Q. Li, G. L. Lin, B. X. Peng, Z. X. Li, Dyes and Pigments, 38, 4 (1998) 211.
6. M. A. Haidekker, T. Ling, M. Anglo, H. Y. Stevens, J. A. Frangos, E. A. Theodorakis, Chemistry and Biology, 8 (2001) 123.
7. K. H. Park, C. J. Lee, D. H. Song, J. Kim, Y. J. Huh, K. S. Min, Molecular Crystals and Liquid Crystals, 370 (2001) 165.
8. C. Kasada, Y. Koyama, T. Kawata, S. Yasui, European Patent, EP 1170339 (2002).
9. S. Pommeret, T. Gustavsson, R. Naskrecki, G. Baldacchino, J. C. Mialocq, Journal of Molecular Liquids, 64, 1-2 (1995) 101.
10. F. Lehmann, G. J. Mohr, P. Czerney, U. W. Grummt, Dyes and Pigments, 29, 1 (1995) 85.
11. E. Horiguchi, K. Shirai, M. Matsuoka, M. Matsui, Dyes and Pigments, 53, 1 (2002) 45.
12. R. Gawinecki, K. Trzebiatowska, Dyes and Pigments, 45, 2 (2000) 103.
13. J. Herbich, A. Kapturkiewicz, Chemical Physics Letters, 273, 1-2 (1997) 8.
14. E. Hendrickx, D. V. Steenwinckei, A. Persoons, C. Samyn, D. Beljonne, J. L. Bredas, Journal of Chemical Physics, 113, 13 (2000) 5439.
15. H. Mitekura, T. No, K. Suzuki, K. Satake, M. Kimura, Dyes and Pigments, 54, 2 (2002) 113.
16. J. M. Kauffman, S. J. Imbesi, Organic Preparations and Procedures Int., 33, 6 (2001) 603.
17. M. B. Smith, J. March, March’s Advanced Organic Chemistry. John Wiley and Sons, Inc,(2001) 1225.
18. T. Yoshiteru, H. Sumio, Y. Masatoshi, U. Hideki, Japanese Patent, (1996) JP 08339573.
第三章 參考文獻
1. 嘉茂睦和等，Japanese patent, JP 58-110494.
2. 徐文國、金欽漢，真空雜誌，6, (1989), 54.
3. 余爰民、李全忠、金欽漢，高等學校化學學報，14, 7, (1993), 935.
4. 余爰民、徐文國、楊文華、金欽漢，吉林大學自然科學學報，1, (1993), 113.
5. A. Abu-Samra, J. S. Morris and S. R. Koirtyohann, Anal. Chem., 47, 8, (1975), 1475.
6. R. J. Giguere, T. L. Bray, S. M. Duncan and G. Majetich, Tetrahedron Lett., 27, (1986), 4945.
7. R. Gedye, F. Smith, K. Westaway, H. Ali, L. Baldisera, L. Leberge and J. Rousell, Tetrahedron Lett., 27, (1986), 279.
8. P. Lidstrom, J. Tierney, B. Wathey and J. Westman, Tetrahedron, 57, (2001), 9225.
9. J. W. Vanderhoff, Chem. Abstr., 70, (1969), 97422V.
10. 大河原信等，機能性色素化學，CMC，昭和56年。
11. 施純榮、胡德，機能性色素之市場/技術現況調查，工研院化工所，中華民國79年。
12. 劉佳明，材料與社會，第65期，第98頁，中華民國81年5月。
13. E. ter Meer, Annalen, 181, (1876) 1.
14. W. Marckwald, Z. Phys. Chem. (Leizig), Vol. 30, (1899) 140.
15. Y. Hirshberg, Compt. Rend., 231, (1950) 903.
16. H. G. Heller, Chemistry and Industry, 18, (1978) 193.
17. H. Durr, Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 28, (1989) 413.
18. Y. Hirshberg, J. Amer. Chem. Soc., 68, (1956) 2304.
19. G. H. Brown Ed., Photochromism, Wiley-Interscience, New York (1971).
20. E. Fischer and Y. Hirshberg, J. Chem. Soc., (1952) 4522.
21. N. P. Ernsting, B. Dick and Th. Arthen-Engeland, Pure and Appl. Chem., 62, 8, (1990) 1483.
22. K. Kano et al., Chem Lett., (1980) 421.
23. A. Yabe et al., Thin Solid Films, 160, (1988) 33.
24. Z. F. Liu, K. Hashimoto and A. Fujishima, Nature, 347, (1990) 658.
25. K. S. Sharma and K. Bhushan, J. Photochem. and Photobio. A: Chemistry, 40, (1987) 371.
26. W. F. Rickey and R. S. Becker, J. Chem. Phys., 49, (1968) 2092.
27. M. D. Cohen, Y. Hirshberg and G. M. J. Schimidt, J. Chem. Soc., (1964) 2051.
28. H. Stobbe, Chem. Ber., 37, (1904) 2232; 38, (1905) 3673.
29. H. G. Heller, IEE Proc., part I, 130, (1983) 209.
30. 郭松永（指導教授：邱顯堂），國立台灣工業技術學院碩士論文，第106頁，中華民國77年。
31. Yasushi Yokoyama et al., Bull. Chem. Soc. Jpn., 63, (1990) 1607.
第四章 參考文獻
1. M. Pope, H. P. Kallmann, and P. Magnante, J. Chem. Phys. 38, (1963) 2024.
2. W. Helfrich and W. G. Schneider, Phys. Rev. Letters. 14, (1965) 229.
3. J. Dresner, RCA Rev. 30, (1969) 322.
4. C. W. Tang, S. A. Van Slyke, C. H. Chen, Appl. Phys. Lett. 51, (1987) 913.
5. C. W. Tang, C. H. Chen, R. Goswami, U.S. Patent 4 769 292, (1988).
6. C. W. Tang, S. A. Van Slyke and C. H. Chen, J. Appl. Phys. 65, (1989) 3610.
7. Y. Sato, S. Lchinosawa and H. Kanai, IEEE J. Select. Top. Quantum Electron 4, 40 (1998).C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett., 51, (1987) 913.
8. G. Gu, V. Bulovic, P. E. Burrows, S. R. Forrest, and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett. 68, (1996) 2006.
9. V. Bulovic´, P. Tian, P. E. Burrows, M. R. Gokhale, S. R. Forrest and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett. 70, (1997) 2954.
10. D. R. Baigent, R. N. Marks, N. C. Greenham, R. H. Friend, S. C. Moratti and A. B. Holmes,,Appl. Phys. Lett. 65, (1994) 2636.
11. G. Parthasarathy, P. E. Burrows, V. Khalfin, V. G. Kozlov, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 72, (1998) 2138.
12. L. S. Hung and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 74, (1999) 3209.
13. G. Parthasarathy, C. Adachi, P. E. Burrows, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 76, (2000) 2128.
14. P. E. Burrows, G. Gu, S. R. Forrest, E. P. Vicenzi and T. X. Zhou, J. Appl. Phys. 87, (2000) 3080.
15. L. S. Hung, C. W. Tang, M. G. Mason, P. Raychaudhuri, and J. Madathil,, Appl. Phys. Lett. 78, (2001) 544.
16. M. H. Lu, M. S. Weaver, T. X. Zhou, M. Rothman, R. C. Kwong, M. Hack, and J. J. Brown, Appl. Phys. Lett. 81, (2002) 3921.
17. T. Dobbertin, M. Kroeger, D. Heithecker, D. Schneider, D. Metzdorf, H. Neuner, E. Becker, H. H. Johannes, and W. Kowalsky, Appl. Phys. Lett. 82, (2003) 284.
18. T. Dobbertin, O. Werner, J. Meyer, A. Kammoun, D. Schneider, T. Riedl, E. Becker, H. H. Johannes, and W. Kowalsky, Appl. Phys. Lett. 83, (2003) 5071.
19. S. Han, X. Feng, Z. H. Lu, D. Johnson and R. Wood, Appl. Phys. Lett. 82, (2003) 2715.
20. H. Riel, S. Karg, T. Beierlein, B. Ruhstaller, and W. Rieß, Appl. Phys. Lett. 82, (2003) 466.
21. H. Riel, S. Karg, T. Beierlein, W. Rieß and K. Neyts, J. Appl. Phys. 94, (2003) 5290.
22. K. Neyts, J. Opt. Soc. Am. A 15, (1998) 962.
23. A. Dodabalapur, L. J. Rothberg, R. H. Jordan, T. M. Miller, R. E. Slusher, and Julia M. Phillips, J. Appl. Phys. 80, (1996) 6954.
24. A. Dodabalapur, L. J. Rothberg, T. M. Miller and E.W. Kwock, Appl. Phys. Lett. 64, (1994) 2486.
25. X. Zhou, M. Pfeiffer, J. S. Huang, J. Blochwitz-Nimoth, D. S. Qin, A. Werner, J. Drechsel, B. Maennig, and K. Leo, Appl. Phys. Lett. 81, (2002) 922.
26. M. Pfeiffer, S. R. Forrest, X. Zhou, K. Leo, Organic Electronics 4, (2003) 21.
27. Z. Xie, L. S. Hung, F. R. Zhu, Chemical Physics Letters 381, (2003) 691.
28. I. M. Chan, T. Y. Hsu, and F. C. Hong, Appl. Phys. Lett. 81, (2002) 1899.
29. P. Karl, Worldwide patent, WO01/15244 (2001).
30. C. W. Chen, P. Y. Hsieh, H. H. Chiang, C. L. Lin, H. M. Wu, and C. C. Wu, Appl. Phys. Lett. 83, (2002) 5127.
31. G. Gu, V. Bulović, P. E. Burrows, S. R. Forrest, and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett., 68, (1996) 2606.
32. G. Parthasarathy, P. E. Burrows, V. Khalfin, V. G. Kozlov, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett., 72, (1998) 2138.
33. G. Parthasarathy, C. Adachi, P. E. Burrows, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett., 76, (2000) 2128.
34. A. Dodabalapur, L. J. Rothberg, R. H. Jordan, T. M. Miller, R. E. Slusher, and J. M. Phillips, J. Appl. Phys. 80, (1996) 6954.
35. A. Dodabalapur, L. J. Rothberg, T. M. Miller, and E. W. Kwock, Appl. Phys. Lett. 64, (1994) 2486; A. Dodabalapur, L. J. Rothberg, and T. M. Miller, Electron. Lett. 30, (1994) 1000.
36. A. Dodabalapur, L. J. Rothberg, and T. M. Miller, Appl. Phys. Lett. 65, (1994) 2308.
37. N. Takada, T. Tsutsui, and S. Saito, Appl. Phys. Lett. 63, (1993) 2032.
38. S. Tokito, K. Noda, and Y. Taga, Appl. Phys. Lett. 68, (1996) 2633.
39. P. E. Burrows, V. Khalfin, G. Gu, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 73, (1998) 435.
40. R. B. Fletcher, D. G. Lidzey, D. D. C. Bradley, M. Bernius, and S. Walker, Appl. Phys. Lett. 77, (2000) 1262.
41. F. Jean, J. Y. Mulot, B. Geffroy, C. Denis, and P. Cambon, Appl. Phys. Lett. 81, (2002) 1717.
42. M. H. Lu, M. S. Weaver, T. X. Zhou, M. Rothman, R. C. Kwong, M. Hack, and J. J. Brown, Appl. Phys. Lett. 81, (2002) 3921.