|
1. R. Nagarajan.; Molecular Sciences and Engineering Team, Natick Soldier Research, Development and Engineering Center, Kansas Street, Natick, MA 01760 ,Chapter 1. 2. Shenhar, R.; Norsten, T.B.; Rotello, V.M. 2005, Adv. Mater. 17, 657-669. 3. Perez, J.; Baxc, L.; Escolano, C. Roadmap Report on Nanoparticles; Nano Road Map Project, European Commission (2005) 4. Gittins, D. I.; Susha, A. S.; Schoeler, B.; Caruso, F. AdV. Mater. 2002, 14, 508. 5. Ji, T. H.; Lirtsman, V. G.; Avny, Y.; Davidov, D. AdV. Mater. 2001, 13, 1253. 6. Kim, S. W.; Kim, M.; Lee, W. Y.; Hyeon, T. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 7642. 7. Zhang, J. H.; Liu, J. B.; Wang, S. Z.; Zhan, P.; Wang, Z. L.; Ming, N. B. AdV. Funct. Mater. 2004, 14, 1089. 8. Lu, Y.; Mei, Y.; Drechsler, M.; Ballauff, M. Angew. Chem., Int. Ed. 2006, 45, 813. 9. Shi, W.; Sahoo, Y.; Swihart, M. T.; Prasad, P. N. Langmuir 2005, 21, 1610. 10. Averitt, R. D.; Sarkar, D.; Halas, N. J. Phys. ReV. Lett. 1997, 78, 4217. 11. Oldenburg, S. J.; Averitt, R. D.; Westcott, S. L.; Halas, N. J. Chem. Phys. Lett. 1998, 288, 243. 12. Jackson, J. B.; Halas, N. J. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 2743. 13. Chen, Z. M.; Gang, T.; Yan, X.; Li, X.; Zhang, J. H.; Wang, Y. F.; Chen, X.; Sun, Z. Q.; Zhang, K.; Zhao, B.; Yang, B. AdV. Mater. 2006, 18, 924. 14. Jiang, Z. J.; Liu, C. Y. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 12411. 15. Wang, W.; Asher, S. A. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 12528. 16. Graf, C.; van Blaaderen, A. Langmuir 2002, 18, 524. 17. Siiman, O.; Burshteyn, A. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 9795. 18. Westcott, S. L.; Oldenburg, S. J.; Lee, T. R.; Halas, N. J. Langmuir 1998, 14, 5396. 19. Dokoutchaev, A.; James, J. T.; Koene, S. C.; Pathak, S.; Prakash, G. K. S.; Thompson,M. E. Chem. Mater. 1999, 11, 2389. 20. Kobayashi, Y.; Salgueirino-Maceira, V.; Liz-Marzan, L. M. Chem. Mater. 2001, 13, 1630. 21. Cassagneau, T.; Caruso, F. AdV. Mater. 2002, 14, 732. 22. Pol, V. G.; Srivastava, D. N.; Palchik, O.; Palchik, V.; Slifkin, M. A.; Weiss, A. M.; Gedanken, A. Langmuir 2002, 18, 3352. 23. Pol, V. G.; Grisaru, H.; Gedanken, A. Langmuir. 2005, 21, 3635. 24. Mallory, G. O., Hajdu, J. B., Eds. Electroless Plating: Fundamentals and Applications; American Electroplaters and Surface Finishers Society: Orlando, Fl, 1990; Chapter 1, pp 1-55. 25. Menon, V. P.; Martin, C. R. Anal. Chem. 1995, 67, 1920. 26. A. G. Dong.; Y. J. Wang.; Y. Tang, N. Ren.; W. L. Yang .; Z. Gao. Chem. Comm., 2002, 350. 27. Tianhao Ji.; Vladislav G. Lirtsman.; Yair Avny.; Dan Davidov. Adv. Mater. 2001, 13, 1253. 28. K. C. Grabar, K. J. Allison, B. E. Baker, R. M. Bright, K. R. Brown, R. G. Freeman, A. P. Fox, C. D. Keating, M. D. Musick, M. J. Natan, Langmuir 1996, 12, 2353. 29. S. J. Oldenburg, J. B. Jackson, S. L. Westcott, N. J. Halas, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 2897. 30. K. R. Brown, L. A. Lyon, A. P. Fox, B. D. Reiss, M. J. Natan, Chem. Mater. 2000, 12, 314. 31. Mayer, A. B. R.; Grebner, W.; Wannemacher, R. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 7278. 32. Henglein, A. J. Phys. Chem. 1993, 97, 5457 33. Mulvaney, P. Langmuir 1996, 12, 788.
|