|
ch1 [1] A. Nordmann, Nano Researchers Facing Choices 10, 13 (2007) [2] D. M. Eigler and E. K. Schweizer, Nature 344, 524 (1990) [3] J. Hu, T. W. Odom and C. M. Lieber, Acc. Chem. Res. 32, 435 (1999) [4] Y. Cui, X. Duan, J. Hu and C. M. Lieber, J. Phys. Chem. B 104, 5213 (2000) [5] C. B. Murray, C. R. Kagan and M. G. Bawendi, Science 270, 1335 (1995) [6] A. L. Gast and W. B. Russel, Phys. Today, 24 (1998) [7] S. Iijima, Nature 354, 56 (1991) [8] Z. W. Pan, Z. R. Dai and Z. L. Wang, Science 291, 1947 (2001) [9] J. Huang, S. Virji, B. H. Weiller and R. B. Kaner, J. Am. Chem. Soc. 125, 314 (2005) [10] S. J. Tans, A. R. M. Verschueren and C. Dekker, Nature 393, 49 (1998) [11] D. L. Klein, R. Roth, A. K. L. Lim, A. P. Alivisatos and P. L. McEuen, Nature 389, 699 (1997) [12] Y. Cui and C. M. Lieber, Science 291, 851 (2001) [13] H. Kind, H. Yan, B. Messer, M. Law and P. Yang, Adv. Mater. 14, 158 (2002) [14] Y. Cui, Q. Wei, H. Park and C. M. Lieber, Science 293, 1289 (2001) [15] V. Derycke, R. Martel, J. Appenzeller and P. Avouris, Nano Lett. 1, 453 (2001) [16] M. Bockrath, D. H. Cobden, J. Lu, A. G. Rinzler, R. E. Smalley, L. Balents and P. L. McEuen, Nature 397, 598 (1999) [17] H. Ohnishi, Y. Kondo and K. Takayanagi, Nature 395, 780 (1998) [18] B. Wei, R. Spolenak, P. K. Redlich, M. Rühle and E. Arzt, Appl. Phys. Lett. 74, 3149 (1999) [19] Y. F. Lin and W. B. Jian, Nano Lett. 8, 3146 (2008) [20] T. W. Ebbesen, H. J. Lezec, H. Hiura, J. W. Beentt, H. F. Ghaemi and T. Thio, Nature 382, 54 (1996) [21] S. P. Chiu, Y. H. Lin and J. J. Lin, Nanotechology 20, 015203 (2009) [22] H. Dai, E. W. Wong and C. M. Lieber, Science 272, 523 (1996) [23] Y. C. Ou, J.J .Wu, J. Fang and W. B. Jian, J. Phys. Chem. C 113, 7887 (2009) ch 2 [1] E. H. Rhoderick and R. H. Williams, Metal-Semiconductor Contacts, 2nd; Clarendon press, Oxford (1988) [2] D. A. Neamen, Semiconductor Physics and Devices: Basic Principle, 3th; McGraw-Hill, New York (2003) [3] S. M. Sze, K. K. Ng, Physics of Semiconductor Devices; John Wiley & Sons: Edison, New York (2005) [4] S. N. Mott, Conduction in Non-Crystalline Materials; Clarendon Press; Oxford (1993) [5] N. F. Mott and E. A. Davis, Electronic Processes in Non-Crystalline Materialsls; Clarendon Press; Oxford (1979) [6] B. I. Shklovskii and A. L. Efros, Electronic Properties of Doped Semiconductor; Cardona (1984) [7] P. Sheng, B. Abeles and Y. Arie, Phys. Rev. Lett. 31, 44 (1973) [8] B. Abeles, P. Sheng, M. D. Coutts, Adv. Phys. 24, 407 (1975) ch 3 [1] J. Hu, T. W. Odom and C. M. Lieber, Acc. Chem. Res. 32, 435 (1999) [2] Y. Cui, X. Duan, J. Hu and C. M. Lieber, J. Phys. Chem. B 104, 5213 (2000) [3] H. Kind, H. Yan, B. Messer, M. Law and P. Yang, Adv. Mater. 14, 158 (2002) [4] D. L. Klein, R. Roth, A. K. L. Lim, A. P. Alivisatos and P. L. McEuen, Nature 389, 699 (1997) [5] U. Simon, Adv. Mater. 10, 1487 (1998) [6] C. T. Black, C. B. Murray, R. L. Sandstrom and S. Sun, Science 290, 1131 (2000) [7] S. J. Tans, A. R. M. Verschueren and C. Dekker, Nature 393, 49 (1998) [8] H. Dai, E. W. Wong and C. M. Lieber, Science 272, 523 (1996) [9] J. Wang, M. S. Gudiksen, X. Duan, Y. Cui and C. M. Lieber, Science 293, 1455 (2001) [10] X. Duan, Y. Huang, Y. Cui, J. Wang and C. M. Lieber, Nature 409, 66 (2001) [11] A. Bachtold, M. Henny, C. Terrier, C. Strunk, C. Schönenberger, J. P. Salvetat, J. M. Bonard and L. Forró, Appl. Phys. Lett. 73, 274 (1998) [12] J. S. Hwang, D. Ahn, S. H. Hong, H. K. Kim, S. H. Hwang, B. H. Jeon and J. H. Choi, Appl. Phys. Lett. 85, 1636 (2004) [13] Z. Y. Zhang, C. H. Jin, X. L. Liang, Q. Chen and L. M. Peng, Appl. Phys. Lett. 88, 073102 (2006) [14] J. O. Lee, C. Park, J. J. Kim, J. Kim. J. W. Park and K. H. Yoo, J. Phys. D: Appl. Phys. 33, 1953 (2000) [15] Y. Woo, G. S. Duesberg and S. Roth, Nanotechnology 18, 095203 (2007) [16] W. B. Jian, I. J. Chen, T. C. Liao, Y. C. Ou, C. H. Nien, Z. Y. Wu, F. R. Chen, J. J. Kai and J. J. Lin, J. Nanosci. Nanotechnol. 8, 202 (2008) [17] Z. Liu, K. Sun, W. B. Jian, D. Xu, Y. F. Lin and J. Fang, Chem. Eur. J. 15, 4546 (2009) [18] Z. Y. Wu, I. J. Chen, Y. F. Lin, S. P. Chiu, F. R. Chen, J. J. Kai, J. J. Lin and W. B. Jian, New. J. Phys. 10, 033107 (2008) [19] Y. W. Heo, L. C. Tien, D. P. Norton, B. S. Kang, F. Ren, B. P. Gila and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 85, 2002 (2004) [20] P. C. Chang and J. G. Lu, Appl. Phys. Lett. 92, 212113 (2008) [21] C. Y. Nam, D. Tham and J. E. Fischer, Nano Lett. 5, 2029 (2005) [22] F. Hernandez-Ramirez, A. Tarancon, O. Casals, E. Pellicer J. Rodriguez, A. Romano-Rodriguez, J. R. Morante, S. Barth and S. Mathur, Phys. Rev. B 76, 085429 (2007) [23] K. Ip, G. T. Thaler, H. Yang, S. Y. Han, Y. Li, D. P. Norton, S. J. Pearton, S. Jang and F. Ren, J. Cryst. Growth 287, 149 (2006) [24] Y. F. Lin and W. B. Jian, Nano Lett. 8, 3146 (2008) [25] P. C. Chang, C. J. Chien, D. Stichtenoth, C. Ronning and J. G. Lu, Appl. Phys. Lett. 90, 113101 (2007) [26] E. D. Minot, F. Kelkensberg, M. van Kouwen, J. A. van Dam, L. P. Kouwenhoven, V. Zwiller, M. T. Borgstro1m, O. Wunnicke, M. A. Verheijen and E. P. A. M. Bakkers, Nano Lett. 7, 367 (2007) [28] J. R. Kim, B. K. Kim, J. O. Lee, J. Kim, H. J. Seo, C. J. Lee and J. J. Kim, Nanotechnology 15, 1387 (2004) ch 4 [1] L. Pavesi, F. Piazza, A. Rudra, J. F. Carlin and M. Ilegems, Phys. Rev. B 44, 9052 (1991) [2] S. M. Sze, K. K. Ng, Physics of Semiconductor Devices; John Wiley & Sons: Edison, New York (2005) [3] M. S. Gudiksen, J. Wang and C. M. Lieber, J. Phys. Chem. B 105, 4062 (2001) [4] J. Wang, M. S. Gudiksen, X. Duan, Y. Cui and C. M. Lieber, Science 293, 1455 (2001) [5] X. Duan, Y. Huang, Y. Cui, J. Wang and C. M. Lieber, Nature 409, 66 (2001) [6] C. Thelander, H. A. Nilsson, L. E. Jensen and L. Samuelson, Nano Lett. 5, 635 (2005) [7] T. Strupeit, C. Klinke, A. Kornowski and H. Weller, ACS Nano 3, 668 (2009) [8] M. D. Moreira, P. Venezuela and T. M. Schmidt, Nanotechnology 19, 065203 (2008) [9] Y. F. Lin and W. B. Jian, Nano Lett. 8, 3146 (2008) [10] Z. Liu, K. Sun, W. B. Jian, D. Xu, Y. F. Lin and J. Fang, Chem. Eur. J. 15, 4546 (2009) [11] Y. F. Lin, T. H. Chen, C. H. Chang, Y. W. Chang, Y. C. Chiu, H. C. Hung, J. J. Kai, Z. Liu, J. Fang and W. B. Jian, Phys. Chem. Chem. Phys. accepted (2010) [12] A. P. Seitsonen, R. Virkkunen, M. J. Puska, R. M. Nieminen, Phys. Rev. B 49, 5253 (1994) [13] G. Marrakchi, K. Cherkaoui, A. Karoui, G. Hirt and G. Müller, J. Appl. Phys. 79, 6947 (1996) [14] R. R. Mehta and B. S. Sharma, J. Appl. Phys. 44, 325 (1973) [15] N. Matsuo, H. Ohno and H. Hasegawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 23, L299 (1984) [16] O. Katz, V. Garber, B. Meyler, G. Bahir and J. Salzman, Appl. Phys. Lett. 79, 1417 (2001) [17] G. Hollinger, E. Bergignat, J. Joseph and Y. Robach, J. Vac. Sci. Technol. A 3. 2082 (1985) ch 5 [1] X. Lu and Y. Xia, Nature Nanotech. 1, 163 (2006) [2] S. Hong and S. Myung, Nature Nanotech. 2, 207 (2007) [3] C. K Chian, C. R. Fincher, Jr. Y. W. Park, A. J. Heeger, H. Shirakawa, E. J. Louis, S. C. Gau and A. G. Macdiarmid, Phys. Rev. Lett. 39, 1098 (1977) [4] J. Huang, S. Virji, B. H. Weiller and R. B. Kaner, J. Am. Chem. Soc. 125, 314 (2003) [5] N. J. Pinto, Jt. A. T. Johnson, A. G. Macdiarmid, C. H. Mueller, N. Theofylaktos and F. A. Miranda, Appl. Phys. Lett. 83, 4244 (2003) [6] R. J. Tseng, J. Huang, J. Ouyang, R. B. Kaner and Y. Yang, Nano Lett. 5, 1077 (2005) [7] Z. Wei, Z. Zhang and M. Wan, Langmuir 18, 917 (2002) [8] J. Huang and R. B. Kaner, Angew. Chem. Int. Ed. 43, 5817 (2004) [9] W. S. Huang, B. D. Humphrey and A. G. MacDiarmid, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 82, 2385 (1986) [10] Y. F. Lin, W. B. Jian, C. P. Wang, Y. W. Suen, Z. Y. Wu, F. R. Chen, J. J. Kai and J. J. Lin, Appl. Phys. Lett. 90, 223117 (2007) [11] Y. F. Lin and W. B. Jian, Nano Lett. 8, 3146 (2008) [12] P. Sheng, B. Abeles and Y. Arie, Phys. Rev. Lett. 31, 44 (1973) B. Abeles and P. Sheng, M. D. Coutts, Adv. Phys. 24, 407 (1975) [13] B. I. Shklovskii and A. L. Efors, Electronic Properties of Doped Semiconductro, New York (1975) [14] Y. Cao, A. E. Kovalev, R. Xiao, J. Kim, T. S. Mayer and T. E. Mallouk, Nano Lett. 8, 4653 (2008) [15] M. Ghosh, A. Barman, S. K. De and S. Chatterjee, J. Appl. Phys. 84, 806 (1998) [16] Z. H. Wang, E. M. Scherr, A. G. MacDiarmid and A. J. Epstein, Phys. Rev. B 45, 4190 (1992) [17] B. Sixou, N. Mermilliod, J. P. Travers, Phys. Rev. B 53, 4509 (1996)
|