臺灣博碩士論文加值系統

本篇論文主要在利用掠角繞射法(GIXD)來探討跟觀察薄膜(thin-film)跟基板(subtrate)間繞射光的之間的關係,所
選用的樣品為Ge0.9Si0.1/Ge,厚度分別為:90 A、1mm,並選擇在特定的共振能量,及特定的繞射平面(4 4 0)、(4 0 4)使其
產生多光複繞射,觀察薄膜跟基板繞射光的相互干涉現象及其隨能量變化時的關係,並用三光複繞射的公式去嘗試
求解其相位問題,然後使能量遠離共振能量,計算並分析樣品的散亂度(mosaic spread)跟其晶格失配情形(mismatch)。
本文首先將簡單的介紹此實驗樣品及相關的實驗儀器,並簡單的介紹X-ray繞射的基本理論,然後就掠角繞射的
理論、應用跟實驗步驟加以闡述,最後分析實驗所得的數據,計算樣品的散亂度、晶格的錯位及在共振能量下多光
複繞射的干涉現象。

摘要
誌謝
目錄
圖表目錄
第一章 前言
第二章 X-ray繞射的基本理論
第三章 掠角繞射法
3-1 GIXD基本理論架構
3-2 實驗步驟
3-3 實驗裝置
3-4 樣品
第四章 實驗
4-1 不同的掠角對繞射光的影響
4-2 非共振能量下的實驗
4-3 共振能量下的實驗
第五章 分析與討論
第六章 結論
參考文獻

[1] W.C.Marra,P.Eisenberger and A.Y.Cho,J.Appl.Phys.50,6027 (1979)
[2] I.K.Robinson,andD.J.Tweet,Rep.Prog.Phys.55,599 (1992),and references therein.
[3] A.M.Afana`sev and M.K.Melkonyan,Acta Cryst.A39,207 (1983)
[4] H.H.Hung and S.L.Chang,Acta Crystallogr.A45,823 (1989)
[5] M.Hart and A.R.Lang,Phys.Rev.Lett.7,120 (1961)
[6] R.Colella,acta Crystallogr.A30,412 (1974)
[7] B.Post,Phys.Rev.Lett.39,760 (1977)
[8] L.D.Chapman,D.R.Yoder,and R.Colella,Phys.Rev.Lett.46,1578 (1981)
[9] L.V.Azaroff,and M.J.Buerger,"The Powder Method in X-ray Crystallogrphy"McGraw-Hill.
[10] K.L.Tseng ,et al,Rev.Sci.Instrum.66,1812 (1995)
[11] 黃玉山 清華大學物理系 博士論文 (1999)
[12] See,for example,H.A.Hauptman,Phys.Today,42,No.11,24 (1989)
[13] S.L.Chang,Phys.Rev.lett.48,163 (1982)
[14] S.L.Chang,Y.S.Hung,C.H.Chao,M.T.Tang,andYu.P.Stetsko,Phys.Rev.Lett.80,301 (1998)
[15] Yu.p.Stetsko and S.L.Chang,Arca Crystallogr.A46,567