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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:簡嘉宏
研究生(外文):Chia-Hung Chien
論文名稱:晶圓研磨與切割製程之優化研究
論文名稱(外文):Study of Wafer Backside Grinding and Sawing Process Optimization
指導教授:范治民
指導教授(外文):Chih-MinFan
口試委員:徐旭昇陳子立
口試委員(外文):Chiuh-ChengChyuTzu-LiChen
口試日期:2012-6-25
學位類別:碩士
校院名稱:元智大學
系所名稱:工業工程與管理學系
學門:工程學門
學類:工業工程學類
論文種類:學術論文
畢業學年度:100
語文別:中文
論文頁數:36
中文關鍵詞:中央合成設計晶圓研磨晶圓切割
外文關鍵詞:Central Composite DesignWafer GrindingWafer Sawing
相關次數:
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本研究目的為透過實驗之優化研究,進而提升晶圓研磨與切割製程產品良率,製程能力與生產效率。以中央合成設計(Central Composite Designs)為基礎。
在晶圓研磨製程實驗當中,所考慮之參數包含研磨輪轉速、第一段進刀速、研磨輪第二段進刀速,在晶圓研磨第一階段發現生產效率不佳,缺點為產出過低,因為產能限制,此參數會造成生產力的損失,迫使我們在進刀速度的設定必須要往上調,然而進刀速度若移太大,後果會導致晶圓邊緣破裂提高而造成良率損失,後果可由研磨輪轉速來補償。經由我們調整優化後,提升製程產品良率,製程能力,生產效率 。
在晶圓切割製程實驗當中,所考慮之參數包含切割軸一轉速、切割軸二轉速、切割進刀速、切割深度列為實驗考量的關鍵參數,另外增加介面活性劑(SD-18)用以增加實驗的延伸性。每個反應變數的期望值,崩碎平均值為望小特性、崩碎標準差為望小特性、良率損失為望小特性,經由篩選我們得到,符合我們反應變數的期望值,且達到符合我們生產量指標。
將這兩個製程結果優化後,我們提升了晶圓研磨與切割製程產品良率,製程能力,生產效率,達到了本研究的目的。
This research conducts sequential experiments with the technique of central composite design to optimize both wafer grinding and cutting processes.
For the wafer grinding process, the challenge is on determining the feed speed. The optimal setting of feed speed determined by earlier experiments achieved high product yield but with the sacrifice of productivity. Through our new experiments and analyses, it is found and validated that a significant decrease of feed speed with the compensation of a higher grinding wheel speed can result in high product yield and high production efficiency at the same time.
For the wafer cutting process, the concerns are on setting the cutting shaft speed, x-axis cutting speed, y-axis cutting speed, cutting feed rate, cutting depth,and surfactants. Experiment optimization results show that all response variables are well controlled on target, product yield is enhanced, and both the amount and size of collapse broken features are greatly reduced.
Our research results successfully lead to the enhancement of product yield, process capability, and production efficiency on both wafer grinding and cutting processes.
第一章 緒論 1
1.1 研究背景與動機 1
1.2 研究目的,方法與步驟 5
1.3 研究範圍與限制 6
第二章 文獻探討 7
2.1 實驗設計方法探討 7
2.2 部分因子設計 8
2.3 研磨加工原理 9
2.4 切割加工原理 12
第三章 研究方法 13
3.1 實驗設計 13
3.2 CMOS影像感測器晶圓研磨切割的實驗方法 17
第四章 個案研究 18
4.1 個案公司資料簡介 18
4.2 CMOS影像感測器製程介紹 19
4.3 CMOS影像感測器晶圓研磨切割實驗及結果 20
4.4 結論 32
第五章 結論與未來展望33
5.1 結論33
5.2 未來展望34
英文部分
1.Giovanni,M.(1983)."Response surface methodology and product optimization."Food Technology 12.
2.Montgomery,D.(2008).Design and analysis of experiments, John Wiley &; Sons Inc.
中文部分
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2.朱延智(2003).產業分析, 五南圖書出版股份有限公司,台北.
3.林慈惠(2006).應用反應曲面法改善液晶顯示器之彩色濾光片製程能力問題.管理學院碩士在職專班工業工程與管理組, 國立交通大學. 碩士論文.
4.林萬衡(2009).應用反應曲面法(RSM)於冷陰極螢光燈(CCFL)塗佈製程(Coating)最佳化研究.工業工程與管理學系,元智大學. 碩士論文.
5.郭峻誠(2006).應用田口方法和反應曲面法於覆晶製程之錫渣殘留品質改善及參數最佳化設計.機械與自動化工程所,國立高雄第一科技大學.碩士論文.
6.陳台昆(2000).在熱效應之影響下,以統計方法作參數與公差設計.工業工程研究所, 逢甲大學. 碩士論文.
7.曾珞萍(1999).以反應曲面法尋找多目標模擬模式之最佳解-以半導體封裝廠印字區為例.製造工程研究所,國立成功大學.碩士論文.
8.楊政融(2006).以反應曲面法進行液晶螢幕多重領域最佳設計. 機械工程學系碩博士班,國立成功大學.碩士論文.
9.鄭春生(2010).品質管理,全華書局,台北.10. 黎正中 and 陳源樹 (2006).實驗設計與分析, 高立書局,台北.
11.盧意淇(2009).以反應曲面法探討射流對撞式高壓均質法製備光甘草定奈米乳液之最適化條件.生物產業科技學系, 大葉大學. 碩士論文.
12.魏子夏(2004).實驗設計應用在製程最佳參數之研究 —以不銹鋼超細線為例.高階主管企管碩士班,南台科技大學.碩士論文.
13.蘇聖凱(2004).反應曲面法在複雜網路上的應用. 統計研究所,國立中央大學. 碩士論文
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