臺灣博碩士論文加值系統

含矽高分子由於能耐氧乾刻及具有高解析力及高光感度，近來已被廣泛研究用於雙層
光阻劑系統的上層成像材料。
吾人發現將間苯二酚以氯化三甲基矽烷酯化後，以正丙醇為溶劑在草酸催化下對甲醛
共聚合，得到的矽酸酯酚醛樹脂，在苯環上帶有部份水解羥基，故對鹼性顯影液的適
用性較佳。為了調整矽含量，可矽酸酯酚單體與間甲酚共聚合或將含矽之寡聚物與酚
醛樹脂混合使用，再與偶氮基之類的感光劑配方後，作成正型光阻劑。
本論文對此系統的耐熱性、抗氧電漿乾蝕性及在不添加附著促進劑的情形下，對矽晶
圓的附著程度加以研究。