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圖1-1: 分子吸附組態圖像,左邊和中間分別為垂直和水平吸附組態[3]。………………………………………………………………….35 圖2-1: 一個雙原子分子AB吸附在xy平面上[26]。………………36 圖2-2: 有限高角錐禁制位能阱對於(a)垂直吸附組態,位能參數為 和 ,(b)垂直吸附組態,位能參數為 、 和 ,(c)水平吸附組態,位能參數為 、 和 ,以O為轉動中心且 為相對於O的轉動慣量[26]。……………………………………………………………………37 圖3-1: 自由剛體轉動能階與理論轉動光譜[25]。…………………38 圖3-2: 以變分法求出自由雙原子分子隨外加電場強度變化的轉動能態[26]。………………………………………………………………39 圖3-3: 以矩陣法求出自由雙原子分子隨外加電場強度變化的轉動能態。……………………………………………………………………40 圖4-1: 垂直吸附分子在不同位能阱高度下隨+Z軸方向電場變化的基態轉動能量。…………………………………………………………41 圖4-2: 垂直吸附分子以量子數(L,m=0)分別對位能阱高度為20、40、60和80在隨電場強度變化下的轉動能量,其中能量、位能阱高度和電場強度以 為單位, 為分子轉動慣量。…………………42 圖4-3: 垂直吸附分子以量子數(L,m=1)分別對位能阱高度為20、40、60和80在隨電場強度變化下的轉動能量,其中能量、位能阱高度和電場強度以 為單位, 為分子轉動慣量。……………………43 圖4-4: 垂直吸附分子在不同位能阱高度下隨-Z軸方向電場強度變化的基態轉動能量。……………………………………………………44 圖4-5: 垂直吸附分子以量子數(L,m=0)對位能阱高度為20、40、60和80在隨電場強度變化下得轉動能量,其中能量、位能阱高度和電場強度以轉動常數 為單位, 為分子轉動慣量。………………45 圖4-6: 垂直吸附分子以量子數(L,m=1)對位能阱高度為20、40、60和80在隨電場強度變化下得轉動能量,其中能量、位能阱高度和電場強度以轉動常數 作為單位, 為分子轉動慣量。……………46 圖4-7: 垂直吸附分子在不同張角下隨電場強度變化的基態轉動能量。………………………………………………………………………47 圖4-8:垂直吸附分子在基態時隨+Z軸方向電場強度變化波函數的角分佈。…………………………………………………………………48 圖4-9: 垂吸附分子在基態時對-Z軸方向電場強度變化基態波函數的角分佈,其中 。………………………………………………49 圖4-10: 垂直吸附分子在激發態(1,0)時隨-Z軸方向電場強度變化波函數的角分佈,其中 。..……………………………………50 圖4-11: 垂直吸附分子在激發態(2,0)時隨-Z軸方向電場強度變化波函數的角分佈,其中 。………………………………………51 圖4-12: 垂直吸附分子在基態(0,0)對電場強度變化的能量和機率圖,左邊縱軸代表能量,右邊縱軸代表吸附分子出現在角錐阱內的機率,圖中實線為能量,虛線為機率。……………………………….52 圖4-13: 垂直吸附分子在激發態(1,0)和(2,0)時對電場強度變化的能量和機率圖,左邊縱軸代表能量,右邊縱軸代表吸附分子出現在角錐阱內的機率,實線為(1,0)的能量和機率,虛線為(2,0)的能量和機率。…………………………………………………………………53 圖4-14: 垂直吸附分子在位能阱高度為20和80對量子數(0,0)、(1,0)和(2,0)的能階和出現在角錐阱內的機率,其中實線為能量,虛線為機率,其中能量、位能阱高度和電場強度以轉動常數 為單位, 為分子轉動慣量。……………………………………………………54 圖4-15: 水平吸附分子在基態時對不同位能阱高度隨電場強度變化的轉動能量。……………………………………………………………55 圖4-16: 以變分法求出對水平組態不同位能阱高度隨電場強度變化的基態能量[26]。………………………………………………………56 圖4-17: 水平吸附分子以量子數m=0對位能阱高度為20、40、60和80,在變化電場強度下得轉動能量,其中能量、位能阱高度和電場強度以轉動常數 為單位, 為分子的轉動慣量。……………57 圖4-18: 水平吸附分子以量子數m=1對位能阱高度為20、40、60和80,在變化電場強度下得轉動能量,其中能量、位能阱高度和電場強度以轉動常數 為單位, 為分子的轉動慣量。……………58 圖4-19: 水平吸附分子對不同張角隨電場強度變化的基態轉動能量。………………………………………………………………………59 圖4-20: 水平吸附分子隨外加電場強度變化的基態波函數的角分佈,其中 。………………………………………………………60 圖4-21: 水平吸附分子隨外加電場強度變化的激發態(1,0)波函數的角分佈,其中 。………………………………………………61 圖4-22: 水平吸附分子隨外加電場強度變化的激發態(2,0)波函數的角分佈,其中 。………………………………………………62 圖4-23: 水平吸附分子在基態(0,0)對電場變化的能量和機率圖,左邊縱軸代表能量,右邊縱軸代表吸附分子出現在角錐阱內的機率,圖中實線為能量,虛線為機率。………………………………………63 圖4-24: 水平吸附分子在激發態(1,0)和(2,0)時對電場強度變化的能量和機率圖,左邊縱軸代表能量,右邊縱軸代表吸附分子出現在角錐阱內的機率,實線為(1,0)的能階和機率,虛線為(2,0)的能階和機率。…………………………………………………………………64 圖4-25: 上圖為週期性位能阱,中圖為-ωcos(x)對x作圖與前圖同單位,下圖為前兩者的疊加。……………………………………….65 圖4-26:垂直吸附模型的位能阱高度為20,張角為30o,化為00至180o的一維位能阱隨電場強度 變化,其中虛線為基態和第一激發態對應電場強度的能階。………………………………………………66 圖4-27: 隨電場強度 變化,不同 對應不同的波函數 。………………………………………………………………….67 圖4-28: 位能阱高度為20和80對基態(0,0)、激發態(1,0)和(2,0)之 隨電場強度 變化,其中不同 對應不同的波函數 。…………………………………………………………………….68 圖5-1: 垂直吸附分子在位能阱高度為80隨電場強度變化的基態能階,其中能量、位能阱高度和電場強度以轉動常數 為單位, 為分子轉動慣量。………………………………………………………69
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