臺灣博碩士論文加值系統

本論文是由兩部分所組成，一是經由程式來模擬膜厚度的均勻性分佈，探討在圓頂型基板支撐架與放置修正板(mask)時並進行分析，另一部分是搭配Zernike多項式擬合(fitting)，模擬在不同鍍膜參數(蒸發源到圓頂型基板支撐架頂點的垂直高度h0，圓頂型基板支撐架的曲率半徑R，蒸氣參數n)變化的條件下，對各種不同的像差有何影響趨勢。

This paper is composed of two parts, first the film thickness uniformity of the dome-type substrate is studied by simulating film thickness distribution theory . The other part optical aberrations caused by non-uniform film thickness are investigated by using Zernike polynomials fittings and simulations of film thickness distributions in different coating parameters.

摘 要 i
Abstract ii
誌 謝 iii
目 錄 iv
表目錄 vi
圖目錄 vii
第一章 緒論 1
第二章 原理 2
2.1 薄膜厚度均勻性 2
2.2 Zernike多項式 4
2.3 修正板（Mask） 5
第三章 分析結果與討論 7
3.1 焦點移位(Focus shift) 20
3.1.1 距離基板中心軸125 mm處的半徑50 mm範圍 20
3.1.2 距離基板中心軸分別是125、225、325 mm處的半徑50 mm範圍 22
3.1.3 距離基板中心軸225mm處，但半徑範圍分別是50、150、225mm 24
3.2 球像差(Spherical aberration) 26
3.2.1 距離基板中心軸125 mm處的半徑50 mm範圍 26
3.2.2 距離基板中心軸分別是125、225、325 mm處的半徑50 mm範圍 28
3.2.3 距離基板中心軸225 mm處，但半徑範圍分別是50、150、225 mm 30
3.3 彗差(Coma) 32
3.3.1 距離基板中心軸125 mm處的半徑50 mm範圍 32
3.3.2 距離基板中心軸分別是125、225、325 mm處的半徑50 mm範圍 33
3.3.3 距離基板中心軸225 mm處，但半徑範圍分別是50、150、225 mm 36
3.4 像散(Astigmatism) 38
3.4.1 距離基板中心軸125 mm處的半徑50 mm範圍 38
3.4.2 距離基板中心軸分別是125、225、325 mm處的半徑50 mm範圍 39
3.4.3 距離基板中心軸225 mm處，但半徑範圍分別是50、150、225 mm 42
第四章 結論 45
參考文獻 46
附錄 47
A 各項彗差 47
B 各項像散 56

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