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研究生:

王韻雯

研究生(外文):

Wang, Yun Wen

論文名稱:

消色差干涉微影技術應用於製作大面積曝光之研究

論文名稱(外文):

Study of Achromatic Interference Lithography Technology Used in Large-Area Lithography

指導教授:

傅建中

指導教授(外文):

Fu, Chien Chung

學位類別:

碩士

校院名稱:

國立清華大學

系所名稱:

奈米工程與微系統研究所

學門:

工程學門

學類:

材料工程學類

論文種類:

學術論文

論文出版年:

2015

畢業學年度:

103

語文別:

中文

論文頁數:

中文關鍵詞:

雷射干涉微影、消色差干涉微影、相位光柵、奈米級圖案化藍寶石基板、多次曝光干涉微影

外文關鍵詞:

Laser Interference Lithography、Achromatic Interference Lithography、Phase Grating、Nano-Patterned Sapphire Substrate、Multi-Exposure Interference Lithography

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