校準的理論基礎是建立在疊紋（Moire pattern ）〔１〕現象上，我們利用疊紋的靈
敏特性，把兩片朗基刻片（Ronchi Ruling ）在同一平面上予以校準。實驗上藉助光
偵檢器及電子電路系統的精確性來偵測兩組疊紋信號並以差放大器（Differential
Amplifier ）量出朗基刻片的相對相位與方向，此外，我們以調整兩組獨立光源的方
法，解決光源不均勻的問題。實驗的結果，精密度分析也在文中予以詳細闡述。
疊紋對心理論基本與校準類似，但疊紋的成因受到光學系統的影響〔２〕。此項影響
，包含了各元件（elements）本身特性以及光學系統對心程度等因素在內。偏心（de
centration）對疊紋最大的影響是彗星像差（Coma）〔３〕，當透鏡對參考軸旋轉時
，離軸（offaxis ）與傾斜（tilt）的存在導致彗星像差隨旋轉角度變化，更顯示了
疊紋的位移。我們結合了繞射像差理論（diffraction theory of aberration）〔４
〕與疊紋理論計算出疊紋位移與偏心的關係。在這一部份的最後我們也比較了疊紋對
心技術與機械對心（Bell Centering）〔５〕的優劣，並檢討本實驗技術上的缺失。
|