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研究生:張錫麟
研究生(外文):Zhang, Xi-Lin
論文名稱:非晶形矽氫薄膜之研製
指導教授:郭義雄郭義雄引用關係
指導教授(外文):Guo, Yi-Xiong
學位類別:碩士
校院名稱:國立交通大學
系所名稱:電子工程研究所
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
畢業學年度:71
語文別:中文
中文關鍵詞:非晶形矽氫薄膜矽氫薄膜薄膜基片低壓化學氣相沈積化學氣相沈積氣相沈積沈積電子工程
外文關鍵詞:ELECTRONIC-ENGINEERING
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本文乃是利用低壓化相沈積系統並由電漿輔助的方式來製非晶型的矽氫薄膜從實驗的
果顯示,長出的膜的厚度並不夠厚(最厚者約5000A°) 。同時由紅外線的吸收光譜看
出這些成長出來的薄膜含有氫的存在,但是都以SiH2或(SiH)n的型式存在。經由數據
的分析,基片的溫度,反應腔的壓力,以基片的置放位置,源氣體和稀釋氣體的比例
,均會影響到薄膜的成長和品質,溫度(基片)低或反應壓力太高容易形成SiH2或(S
iH)n而且在低溫的基片上也不易長出厚的薄膜。靠近又應氣體入口的基片長出較厚而
且比較均勻之薄膜。

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