在半導體的製造過程中，爐溫對產品的品質，有絕對性的影響。本文的主要目的，在
研究最適合爐溫於控制器的控制模式並實際合成類比爐溫控制器及數位爐溫控制器。
其精密度可達攝氏正負0.5 度，控制範圍由攝氏兩百度至一千兩百度。類比爐溫控制
器成本低廉，易於合成與維護，但不易達成精密的要求。數位爐溫控制器較為精確，
而在類比／數位轉換時，亦易受雜訊干擾而生誤差。本文結論部份，對此二種控制器
以予比較，並討論有關爐溫控制器的技術。