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研究生:

廖宜智

研究生(外文):

LIAO, YI-ZHI

論文名稱:

矽化鎢薄膜在複晶矽上的特性

指導教授:

陳茂傑

指導教授(外文):

CHEN, MAO-JIE

學位類別:

碩士

校院名稱:

國立交通大學

系所名稱:

電子研究所

學門:

工程學門

學類:

電資工程學類

論文種類:

學術論文

畢業學年度:

語文別:

中文

中文關鍵詞:

矽化鎢、複晶矽、蒸鍍系統

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矽化鎢／複晶矽薄膜由於它具有低電阻及可被氧化的特性，使得它在超大型積體電路
中，被用作場效電晶體的閘電極及元牛間之導線的機會愈加濃厚，其重要性已不可忽
略，矽化鎢薄膜係以雙電子槍蒸鍍系統備置而成，其中矽與鎢的原子數比介於2.1 和
2.8 之間。蒸鍍形成的矽化鎢／複晶矽薄膜經過65 ℃到1100 ℃的各種高溫，配合不
同時間間燒結而成之後，再針對其各種特性，諸如：表面狀況、黏附性、片電阻和氧
化等進行研究和分析。

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