本研究係利用極譜儀及紫外線光譜儀探討雪梨酮的醛及酮衍生物之還原特性：
（一）３－取代基－４－甲醛基雪梨酮之極譜及紫外線吸收光譜之研究：
先合成了五種３－取代基－４－甲醛基雪梨酮，並利用極譜儀研究其在滴汞電極之還
原現象；包括酸度、反應物濃度、溶劑與支持電解質等對還原行為之影響。並由半波
電位、極限電流與PII 值之關係，探討在電極的反應機構。由極譜法與紫外線吸收光
譜法證實３－取代基－４－甲醛基雪梨酮的還原電位符合修飾過的HAMMETT 式。
（二）３－取代基－４－醯基雪梨酮之極譜研究：
先合成了八種３－取代基－４－醯基雪梨酮，然而滴汞電極研究此類雪梨酮衍生物之
還原現象。結果顯示取代基常數的準確性僅有一個限制：半波電位的數值僅受取代基
在苯環共振及其誘導效應的影響，即雪梨酮衍生物之取代基，若在苯環或雪梨酮環上
而為推電子基時，取代基常數（ ）為負值。若為拉電子基時，則其取代基常數為正
值。然所得的反應常數（ ）為正值，甚符合修飾過的HAMMETT 式。雪梨銅衍生物之
取代基，若不在苯環或雪梨酮環上，則不能符合修飾過的HAMMETT 式
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