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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:黃坤成
研究生(外文):HUANG, KUN-CHENG
論文名稱:矽晶片之光激氮化反應的研究
論文名稱(外文):Photo-enhanced chemical reaction:nitridation of semiconductor silicon base and silicon dioxide
指導教授:方炎坤方炎坤引用關係張俊彥
指導教授(外文):FANG, YAN-KUNZHANG, JUN-YAN
學位類別:碩士
校院名稱:國立成功大學
系所名稱:電機工程研究所
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1986
畢業學年度:74
語文別:中文
中文關鍵詞:矽晶矽晶片光激氮化反應成長動力學
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本文成功地以光激氮化系統成長出矽化氮及矽氧化氮薄膜。首先我們探討了光激氮化
反應的成長動力學,並以歐傑能譜分析、介質崩潰電壓、漏電流及抗氧化性來討論薄
膜的特性。薄膜與矽晶片間的介面狀態密度由小訊號高頻電容一電壓法測得。最後,
應用此薄膜在一個二極體上來探討其反向電流及反向崩潰電壓。經由本文的研究,成
功地證明矽化氮及矽氧化氮比二氧化矽更適合超大型積體電路的應用。

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