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研究生:
楊棋銘
研究生(外文):
YANG, GI-MIN
論文名稱:
活性離子蝕刻鋁矽濺鍍膜
指導教授:
周更生
指導教授(外文):
ZHOU, GENG-SHENG
學位類別:
碩士
校院名稱:
國立清華大學
系所名稱:
化學工程研究所
學門:
工程學門
學類:
化學工程學類
論文種類:
學術論文
論文出版年:
1986
畢業學年度:
74
語文別:
中文
中文關鍵詞:
鋁
、
鋁合金
、
積體電路
、
濺鍍膜
、
活性離子蝕刻
相關次數:
被引用:0
點閱:380
評分:
下載:0
書目收藏:0
鋁合金廣泛應用於積體電路之通路(interconnect)上,然而製造上仍存在一些問題
。本研究首先探討鋁矽合金濺鍍膜的一些基本特性,接著研究活性離子蝕刻(RIE )
在金屬膜圖形轉換(pattern transfer)過程,可能引發的腐蝕問題,同時RIE 的蝕
刻參數蝕刻率的影響亦做初步的探討。最後再研究基質面磷玻璃(PSG )之磷含量對
上層金屬膜所造成腐蝕之現象。
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