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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:戴昌銘
研究生(外文):DAI, CHANG-MING
論文名稱:二氧化碳雷射研製及雷射在蒸鍍上之應用研究
指導教授:蘇青森蘇青森引用關係
指導教授(外文):SU, GING-SEN
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:原子科學研究所
學門:工程學門
學類:核子工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1987
畢業學年度:75
語文別:中文
中文關鍵詞:二氧化碳雷射雷射蒸鍍薄膜真空系統
外文關鍵詞:CARBON-DIOXIDE-LASERMEMBRANCEVACUUM-SYSTEM
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為了實驗室的需要,我們簡單地製作一軸流、輻向放電、內鏡式、連續波輸出、單模
的二氧化碳雷射。本雷射共振腔長一三九五公厘,輸出面鏡反射率六六%。經測試結
果,其最大輸出功率三四瓦,效率達一四%,輸出橫模約為圓形基模。
在雷射蒸鍍應用上,首先我綜合學者的經驗,再來探討雷射光與物質的交互作用、雷
射蒸發物質的情形及利用此法鍍膜的性質和特性。在蒸鍍設備上,我們裝設了真空系
統,雷射用脈衝式釹雅克雷射,輸出能量三焦耳,脈衝寬度約三百微秒。聚焦在靶上
的功率密度約為二萬瓦每平方公分。
在實驗上,我鍍了一些高熔點金屬和介電質的薄膜。分析的結果顯示,蒸鍍率平均每
脈衝在二到二五A 之間;有一些薄膜具多結晶性;薄膜的表面形態有部份薄膜不平,
薄膜的原子分佈則相當均勻;薄膜的組成分析指出薄膜有些來自真空幫浦油的污染。

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