臺灣博碩士論文加值系統

ＷＦ－ＣＶＤ的最大優點在於低溫反應（400℃∼700℃）即可生成高熔點的金屬鎢
和炭化鎢。本實驗的主要目的在確立常壓ＷＦ－ＣＶＤ反應系統（ＷＦ－Ｈ或
ＷＦ－Ｈ－ＣＨ）蒸著金屬鎢和炭化鎢的研究。
實驗結果顯示，金屬鎢薄膜蒸著於人工合墨基材（substrate ）的最適生成條件為反
應氣體之流速比Ｈ／ＷＦ＝6/1, 蒸著溫度500℃， 而不同蒸著溫度的影響，自
４００℃起至５００℃，其生成膜的重量依次增加上昇，但超週６００℃後，則漸形
遞減。理論深討的結果，高溫領域遵循Maxwell－Boltzmann速度分佈論與碰撞理論所
推導到達方程式（arrival eg），R ＝C（MT）?P的準則。而低溫領域則符合熱力學
上，自由能對反應進行的預測。經由X－ray繞射法、SEM 、低壓氣體透過率和硬度的
測試等分析結果，怕肯定此推論。
CVD－WC 已確立完成。生成重量隨蒸著時間呈直線增加。於Ｈ／ＷＦ
／ＣＨ＝６∕３∕０‧０６、反應溫度６００℃的條件下，可分別在人工石墨和
銅等不同基材上可得硬度達１，７００Hmv 均勻緻密的炭化鎢（WyC，y＝１，２，３）
蒸著膜。