近年來雷射常用來做為光泵浦(optical pumping )的光源而由處在激發態的原子、 分子系統所放射出來的瑩光,可以用來探討原子分子的一些性質:如各能階的躍遷機 率。 本文利用氮氣雷射激發染料雷射,以產生可調的雷射光經過KDP 倍頻後來做為泵浦的 光源,再由量測瑩光的強度來探討非結晶矽在雷射退火加熱(laser anneal)時的熱 平衡狀態。並用以來量測矽晶格之溫度,並推測矽晶格在雷射退火加熱時是熱平衡模 型(thermal equilibrium )還是非熱平衝模型(non thermal equilibrium model )。
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