本研究係以二階紊流模式處理二相懸浮紊流,工作的重點在於二階紊流濃度場模式的 建立。考慮對稱的二維平板間不可壓縮,在穩定且完全發展的狀態下,首先用k-e模 式及雷諾應力模式解析流場特性,再代入本文所發展的二階紊流濃度場模式求解,所 得結果將與傳統的一階模式作比較。 建立二階紊流濃度場的步驟和k-e模式類似,首先選定濃度場的特性長度與特性速度 ,再以因次分析配合基本的物理觀念,將所有的未知相關量化為已知量的函數,使問 題封閉可解。本文模式建立之初已假設粒子的存在並不影響流場特性,所以只能適用 於微小粒子(小於100μm )及低濃度狀況(質量濃度小於6%)。 計算結果顯示,濃度場特性受雷諾數、粒徑及邊界條件影響最大。濃度的極大值出現 在中心線上,而紊流擴散係數卻在平板與中心線之間有極大值;收集效率和紊流擴散 係數均隨粒徑的增加而增加;紊流施密特數隨著位置不同而有很大的變化,與傳統一 階模式的假設相去甚遠。
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