本研究係利用化學氣相沉積法（CVD ），於熱壁水平式之反應系統中，將AlCl3於高
溫下與 H2及CO2之間產生水合反應（hydrolysis）生成Al2O3而被覆於真空電漿
噴塗之Co-３２Ni-２１Cr-８Al-０‧５Y 超合金塗層基板上。藉改變反應體之總流速
、系統壓力、蒸鍍溫度等變數，對被覆之Al2O3的成長速率、晶體結構、表面形態
、及成長缺陷等加以探討。
實驗結果顯示，成長速率隨反應氣體之總流速、蒸鍍溫度之增加而增加，但當系統壓
力為某一中間值時成長速率顯示極大值。在低溫高流速時，表面形態呈細小晶粒聚集
的圓球頂狀；而溫度升高時，將使晶體傾向多面錐狀的形態成長。在較高的成長速率
下，表面形態顯示成長坑（Growth Pit）缺陷的存在；以CVD 法成長Al2O3的主要
機構是由TLK 機構來完成，而低溫時立要由成核反應來完成。
經由XRD 分析，在１０００℃時為α相之氧化鋁，而在９００℃、９５０℃時其組織
為α＋k 相之混合結構，８００℃、８５０℃時則出現α＋γ＋K 相。在α相之成長
方，低溫到高溫時，成長方向由〔１２３０〕方向轉變成〔４２６１〕方向；經初步
之氧化試驗結果，在９５０℃時，經被覆Al2O3之CO-３２Ni-２１Cr-８Al-０‧５
Y 試片，Al2O3提供降低氧擴散之能力，減少基材氧化旳進行。