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研究生:王維銘
研究生(外文):WANG, WEI-MING
論文名稱:以CVD法在超合金表面被覆AI2O3研究
指導教授:張煥修
指導教授(外文):ZHANG, HUAN-XIU
學位類別:碩士
校院名稱:國立成功大學
系所名稱:礦冶及材料科學研究所
學門:工程學門
學類:其他工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1988
畢業學年度:76
語文別:中文
論文頁數:106
中文關鍵詞:化學氣相沈積法水合反應超合金成長速率成長坑
外文關鍵詞:CVDHYDROLYSISGROWTH-PIT
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本研究係利用化學氣相沉積法(CVD ),於熱壁水平式之反應系統中,將AlCl3於高
溫下與 H2及CO2之間產生水合反應(hydrolysis)生成Al2O3而被覆於真空電漿
噴塗之Co-32Ni-21Cr-8Al-0‧5Y 超合金塗層基板上。藉改變反應體之總流速
、系統壓力、蒸鍍溫度等變數,對被覆之Al2O3的成長速率、晶體結構、表面形態
、及成長缺陷等加以探討。
實驗結果顯示,成長速率隨反應氣體之總流速、蒸鍍溫度之增加而增加,但當系統壓
力為某一中間值時成長速率顯示極大值。在低溫高流速時,表面形態呈細小晶粒聚集
的圓球頂狀;而溫度升高時,將使晶體傾向多面錐狀的形態成長。在較高的成長速率
下,表面形態顯示成長坑(Growth Pit)缺陷的存在;以CVD 法成長Al2O3的主要
機構是由TLK 機構來完成,而低溫時立要由成核反應來完成。
經由XRD 分析,在1000℃時為α相之氧化鋁,而在900℃、950℃時其組織
為α+k 相之混合結構,800℃、850℃時則出現α+γ+K 相。在α相之成長
方,低溫到高溫時,成長方向由〔1230〕方向轉變成〔4261〕方向;經初步
之氧化試驗結果,在950℃時,經被覆Al2O3之CO-32Ni-21Cr-8Al-0‧5
Y 試片,Al2O3提供降低氧擴散之能力,減少基材氧化旳進行。

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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