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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:陳至信
研究生(外文):CHEN, ZHI-XIN
論文名稱:穆勒(Mueller)矩陣在薄膜量測上的應用
指導教授:趙煦
指導教授(外文):ZHAO, XU
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:電機工程研究所
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1988
畢業學年度:76
語文別:中文
論文頁數:92
中文關鍵詞:穆勒矩陣薄膜入射光散射光
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當光照射在一物體上時,會產生反射,穿透,散射,繞射,吸收等現像,若將入射光
和散射光以Stoke’s向量(一個四維的向量)表示,則可將仉射光和散射光之間以M-
ueller矩陣(Sij(θ),i,j =1,2,3,4,θ為散射角)相連繫,就操作型
定義而言,此乃指入射光經由Mueller 矩陣的運作產生散射光,故Mueller 代表散射
源,它蘊含著散射源的某些物理特性,藉著調變散射源的某一物理特性,量測散射光
Stoke’s向量隨角度分佈的情況可推算出Mueller 矩陣與此物理特性間的關係。
目前無論研究或應用的許多領域,都與薄膜有密切的關係,例如:表面科學,半導體
製程,積體光學,光學鏡片及元作蒸鍍,光碟製程等。薄膜的厚度和折射係數是兩項
基本且重要的參數,在任何基板上鍍薄膜時,薄膜的邊緣對整個面的幾何形狀而言是
一驟然的變化,當雷射光束照射於其上時,雷射光束含蓋範圍所產生的散射,是由於
整個面的驟然變化(或說階梯)造成,故散射光的強度分佈與此驟然變化必定有密切
的關係。若視邊緣為散射源,量其Mueller 矩陣的十六個元素,當可得到十六個元素
與薄膜厚度間的關係!
本實驗是第一個以傳統的方式完成薄膜邊緣Mueller 矩陣的量測,量測結果所具有的
對稱性及一致性,符合理論的推論,充分顥示本實驗系統蜼未使用四個偏振調變器及
Lock-in Amplifier的技術,仍能達到相同的效果證明了本系統的可靠性。S,
S兩歸一化元素隨厚度有靈敏的變化顯示量測Mueller 矩陣以求薄膜厚度的方法
是可行的,且有相當的準確度。

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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