本實驗是利用實驗室自有的中國灰鼠肺尖細胞，V-79，為實驗材料，研究低劑量加馬
射線，對其細胞遺傳物質－－DNA 所造成的斷裂（breakage）及其修補（repair）情
形，並對照射後細胞DNA 複製的情形，加以探討。
V-79細胞經1.0 葛雷（Gray），0.5 葛雷，或0.05葛雷加馬射線（Gamma-ray ）照射
之後，可明顯的測到DNA 單股斷裂，但未發現有DNA 單股斷裂。換言之，此種單股斷
裂在短時間中已有85－90％的DNA 單股斷裂經修補作用而消失。
此外在此等低劑量加馬射照射之下，亦可使DNA 的合成速率，產生短暫的抑制。這抑
制DNA 合成的現象，發生在照射後0 至4 小時之內，之後，其DNA 合作速率即回復正
常。
另一實驗結果，以1.0 葛雷，0.5 葛雷加馬射之後，V-79細胞的DNA 合成分子片段，
在分子量大於10 kb (KiIo-base) 以上的分子數目有增加的現象產生，而小於10kb
的DNA 合成片段數目，卻有減少現象。而這種因照射之後，所產生的DNA 合成的變化
，在細胞照射後，培養12小時之後即恢復正常。
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