在產品研究開發階段，決者經常面臨如何挑選比控制（標準）母體更具可靠度的設計
母體。本篇論文研究的範圍是在型ＩＩ截略抽樣計劃且特定時間下，挑選較具可靠度
的韋伯母體。
假設π、π，．．．．，πk 是Ｋ＋１個獨立的韋伯母體，第ｉ個韋伯母體πi
的可靠度函數如下：Ｒ（ｔ；αｉ；βｉ）＝ｅｘｐ（－（ｔ／αｉ）βi ）假如Ｒ
（Ｓ* ；αｉ；βｉ）＞Ｒ（Ｓ* ；α；βυ）則稱母體πｉ比π更具可靠度。
在型ＩＩ截略抽樣計劃下，我們主要決定①每一母體適當的樣本和截略數（ｎｉ；γ
ｉ）②局部最適法則以便由π到πk 中挑選比π更具可靠度的母體。
當形狀參數β已知時，由Huang et al （一九八四）的局部最適法則來推導挑選法則
，在控制此法則的正確挑選機率及誤差機率下，計算樣本數及臨界值。
當形狀參數β在某一區間中有事前分配，則修正局部最適法則。最後以法則來做模擬
，由結果得知此法則對事前分配的變異仍相當的適用。
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