第一章簡述實驗動機及方法，第二章對磁光材料應用在記錄方面的發展狀況，尤其對
最近受到重視的非晶形稀土過度元素合金薄膜有詳細的介紹，其中也闡述了磁光記錄
基本的讀／寫／擦物理現象及技術，這些材料中有些適合於補償溫度寫入，如TbFeCo
，有些適於居禮溫度寫入，如TbFe，這兩種寫入方法同樣是利用矯頑磁場Hc隨溫度的
昇高而陡降，因磁光讀出訊號大小正比於克爾角，一般稀土過渡元素合金薄膜之生（
raw ）克爾角皆小於一度，第二章中特別討論訊號之增強，第二章最後並討論直流磁
控濺鍍原理，且提到真空度和工作氣體純度及壓力對濺渡薄膜品質的影響，由於TbFe
的高度活性，我們採用Getter Sputtering 的觀念來增進薄膜品質。
第三章詳述使用的儀器及其特性，並對實驗程序有詳細的描述，包括真空設備介紹，
試片之製作，克爾角測量方法，讀寫測試設備及測試方法，磁滯曲線之測量，ICP-A-
ES組成分析，和Auger 縱深元素分析測量等，第四章討論實驗結果，因為磁光材料的
表現與其磁性有密切的關連，諸如垂直異向性，矯頑磁場，飽和磁化，殘留磁化等，
這些資訊皆可由磁滯曲線獲得，所以我們做一系列試片的SQUID 測量，結果顯示明顯
的磁異向性，易磁化軸垂直於薄膜表面，且矯頑磁場Hc約為數千高斯，Auger 縱深元
素分析顯示TbFe交替層薄膜呈周期性結構，但Tb Layer間的介面不明顯，X-ray 也未
看到任何規則性，証明其為非晶形結構，第四章並討論組成及厚度，總層數分別對各
種磁性的影響，第五章結論，比較學長的結果與這一次的結果並對未來的研究方向做
個總結。
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