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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:鄭尊仁
研究生(外文):ZHENG, ZUN-REN
論文名稱:金屬╱PC╱半導體MIS之探討
指導教授:林敏雄林敏雄引用關係葉鳳生
指導教授(外文):LIN, MIN-XIONGYE, FENG-SHENG
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:電機工程研究所
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
畢業學年度:77
語文別:中文
論文頁數:88
中文關鍵詞:蒸鍍法
外文關鍵詞:PCALCIPCINCIPCMGPCMNPCSiGaAs
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本文係利用極為簡單方便的蒸鍍法,將四種屬於有機體的Phthalocyanine(簡稱PC)
:AlClPC,INClPC,MgPC,MnPC蒸鍍於Si和GaAs上.再蒸鍍Au上去做為電極,為使之
形成Metal /Insulater /Semiconducter 的結構.測量其電容對電壓(C -V ),
電導對電壓(G -V ),電流對電壓(I -V ),電容對頻率的響應(C -F ),以
及熱處理對PC的影響,並探討其介面特性.
這四種PC的介電係數(1M Hz下),電場強度及電阻係數分別為;AlclPC:2.11
,8.3*10V /CM,5.5*10Ω﹣cm.InclPC:2.07,1.2*10V
/CM,5*10Ω﹣cm.MgPC:3.24,8.1*10V /CM,1*10Ω﹣cm.
MnPC:2.51,8*10V /CM,2*10Ω﹣cm.電流穿越絕緣層的效應,判斷
應是Frenkel-Poole ,ohmic ,ion conduction三種效應引起,再由lnI 對lnV 的斜
率一直是數個order 來看,應以Frenkel-poole 效應為主.電容對不同頻率所發生的
frequency dispersion現象,一般被認為是dielectric dispersion 和interface s-
tate dispersion 的影響,而對GaAs後者的影響較明顯.C -V 的遲滯現象是由ion
drift ,polarization,及charge injection共同影響,而以ion drift 及polariz-
ation 影響為主.照光後的C -V 曲線,由其遲滯現象可知為ion 或polarization的
效應.電流也因照光而有所改變.熱處理對PC造成明顯的特性改變.此外在偏壓﹣加
溫後造成C -V flat-band voltage 的偏移,顯示絕緣層(PC)內有帶負電的離子存
在.
至於PC與Si和GaAs的介面問題,發現所有的MIS 均有deep-depletion的現象,此因絕
緣層內的電荷注入半導體表面造成inversion layer 屏障效應的消失產生的結果.最
後沿用Terman的方法計算surface state 只得到靠近band-edge 的值.

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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