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研究生:劉原龍
研究生(外文):LIU,YUAN-LONG
論文名稱:鋁化鈷在砷化鋁鎵上肖特基接觸特性之研究
論文名稱(外文):A study of CoAl schottky contacts to AlGaAs
指導教授:陳茂傑雷添福張振雄
指導教授(外文):CHEN,MAO-JIELEI,TIAN-FUZHANG,ZHEN-XIONG
學位類別:碩士
校院名稱:國立交通大學
系所名稱:光電(科學)研究所
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1990
畢業學年度:78
語文別:中文
論文頁數:73
中文關鍵詞:鋁化鈷砷化鋁鎵肖特基接觸莫耳分率快速退火能障
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本文研究鋁化鈷/ 砷化鋁鎵在不同砷化鋁含量下的特性變化;並特別對鋁化鈷在砷化
鋁莫耳分率為0.3 的砷化鋁鎵上所形成的肖特基接觸,在不同條件退火後接觸特性作
深入探討。
實驗結果顯示鋁化鈷在液相磊晶成長之砷化鎵薄膜上的能障高度為0.797 電子伏特;
隨著砷化鋁的莫耳分率增加至 0.493,此能障高度增加至1.113 電子伏特;之後,砷
化鋁的莫耳分率增加至0.901 時,此能障高度減至1.043 電子伏特。
鋁化鈷在砷化鋁莫耳分率為 0.3的砷化鋁鎵薄膜上之肖特基接觸,經高溫退火後的結
果顯示,以快速退火法可得較為穩定的電性。快速退火處理后的能障高度變化小。在
退火時,如於樣品上覆蓋一層由電子鎗鍍的二氧化矽膜,則在850℃20 秒快速退火後
,肖特基接觸的理想因子為1.11,能障高度為1.065 電子伏特。

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