(3.239.192.241) 您好!臺灣時間:2021/03/02 12:32
字體大小: 字級放大   字級縮小   預設字形  
回查詢結果

詳目顯示:::

我願授權國圖
: 
twitterline
研究生:劉繼文
研究生(外文):LIU,JI-WEN
論文名稱:在鎢材上成長鑽石薄膜及其附著特性
論文名稱(外文):Growth of diamond films on W substrates and their adhesion properties
指導教授:郭正文郭正文引用關係
指導教授(外文):GUO,ZHENG-WEN
學位類別:碩士
校院名稱:國立交通大學
系所名稱:機械工程研究所
學門:工程學門
學類:機械工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1990
畢業學年度:78
語文別:中文
論文頁數:88
中文關鍵詞:鎢材成長鑽石附著特性晶面圓滑化
外文關鍵詞:CUBO-OCTAHEDRON
相關次數:
  • 被引用被引用:0
  • 點閱點閱:82
  • 評分評分:系統版面圖檔系統版面圖檔系統版面圖檔系統版面圖檔系統版面圖檔
  • 下載下載:0
  • 收藏至我的研究室書目清單書目收藏:0
本實驗採用微波電漿化學氣相沉積法, 以 CH4和H2為反應氣體, CH4/H2=1vol%, 流量
100SCCM,內壓40torr, 在鎢材上沉積鑽石與類鑽石薄膜。基材先給予不同的前處理 ,
改變沉積溫度, 並做沉積後之熱處理。藉以探討實驗參數對成核成長, 表面形貌及附
著性之影響。沉積膜以 TEM, SEM, XRD, EPMA及ESCA分析其特性。並採用壓痕測試法
來評估不同條件, 沉積膜之附著性。
實驗結果顯示, 基材表面粗糙、鑽石顆粒不易孕核。但試片表面若先以鑽石膏拋過 ,
其成核密度可大為提高。由 SEM觀察得知, 880℃ 沉積膜之形貌為cubo-octahedron,
980℃ 沉積膜則為structureless,由於後者和基材間之中間層濃度梯度較平滑, 其熱
膨脹係數介於兩者之間, 故其附著性比前者要好。作保護氣氛熱處理時, 由於氧之存
在, 880℃ 沉積膜沿晶界作用被蝕刻成柱狀, 980℃ 沉積膜則沿晶粒本身作用成層狀
結構。真空熱處理系統亦含有少量氧, 880℃ 沉積膜經此處理 3hr, 附著性可大為提
高, 其餘條件附著性只略有增加。
另一方面, 預先沉積碳膜之沉積膜顆粒大小不一致, 晶面並有圓滑化之現象, 由破斷
面來看, 其成長速率比原來小了許多, 壓痕測試結果附著性亦有所改善。其原因可歸
咎於介面反應完全。但沉積溫度在 930℃以上時, 有未反應區存在。導致其膜中有許
多孔洞。980℃ 沉積膜由於成核密度太低, 所以無法成膜。

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
第一頁 上一頁 下一頁 最後一頁 top
系統版面圖檔 系統版面圖檔