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研究生:簡明富
研究生(外文):JIAN,MING-FU
論文名稱:Poly(MAN-CO-ITA)的合成,結構及做為DeepUV光組劑的探討
論文名稱(外文):Poly (MAN-CO-ITA)的合成, 結構及做為Deep UV光組劑的探討
指導教授:金惟國
指導教授(外文):JIN,WEI-GUO
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:化學工程研究所
學門:工程學門
學類:化學工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1990
畢業學年度:78
語文別:中文
論文頁數:97
中文關鍵詞:合成結構二甲基乙醯胺單體分子共聚合物
外文關鍵詞:Dee UV光阻劑POLY(MAN-CO-ITA)
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當阻劑乃是應用於電子工業各種加式程序中, 最後仍需被剝離的材料, 它在半導體元
件微細加工過程, 所扮演的解色乃是將已設計好的圖案轉移到晶片上。本實驗合成Po
ly (methacrylonitrile-co-itaconic acid)/Poly (MAN-co-ITA), 探討其組成、結
構、性質和其作為DeeP-UV 正光阻劑的可行性。
在本實驗中, 我們發現MAN 及ITA 單體, 以二甲基乙醯胺為溶劑, 溫度50℃, 行自由
基共聚合反應, 其反應性比為 =1.237, =0.0375, 利用Markov 統計理論分析發
現, 所得共聚特為無規則共聚物, 而單體分子在聚合物中的分佈隨單體的比例不同而
不同。
Poly (MAN-co-ITA) 在100 ℃以上, 共聚物中的ITA 單體單位會行分子內脫水反應,
形成五圓環的酸酐結構, 在120 ℃∼130 ℃之間, -COOH 和-C≡N 引發結環反應, 生
成六圓環結構, 五圓環酸酐在150 ℃以上隨時間的增長而逐漸分解, 六圓環結構隨溫
度和時間之增加而增加。
共聚合物經130 ℃以上烘烤共UV吸收光譜在200∼220nm會顯著增加, 經Deep-UV 照射
, 200∼220cm吸收降低, 釋放出CO , 發生分子斷鏈反應, 分子量降低, 可作為 Dee
P-UV正光阻劑。我們利用自行裝置的雷射干射儀, 探討烘烤溫度及曝光前後共聚物解
速率的關係。對同一組成的共聚物, 溶解速隨軟烤溫度增加而降低, 比較曝光前後的
差異, 溶解速率隨曝光時間烘烤溫度之增加而增加。
由於Poly (MAN-co-ITA) 會因熱引發生結環反應, 經軟烤后分子鏈變得較剛硬, 耐熱
性提高, 在一些高溫的情況下, 如電漿蝕刻等, 將表現更佳之性能。

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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