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研究生:簡清華
研究生(外文):JIAN,QING-HUA
論文名稱:金屬銅於硝酸鈉溶液中的雷射蝕刻之研究
指導教授:萬其超萬其超引用關係
指導教授(外文):WAN,QI-CHAO
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:化學工程研究所
學門:工程學門
學類:化學工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1991
畢業學年度:78
語文別:中文
論文頁數:64
中文關鍵詞:硝酸鈉溶液雷射蝕刻電烙鐵恆溫槽行進速率
外文關鍵詞:ASPECT-RATIOSRIPPLE-FORMATION
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本文主要係探討應用雷射作為金屬銅之濕式蝕刻方面的研究,這包括了對於雷射造成
蝕刻原因的探討,雷射所蝕刻的蝕刻痕之縱向與橫向(aspect-ratios )間的比例關
係,以及熱對雷射濕式蝕刻之影響。
對於所得到的結果,可以掃納出以下的結論:
1.雷射造成蝕刻原因的探討
吾人對於雷射造成蝕刻原因的探討係應用了電烙鐵、雷射的反面蝕刻、以及恆溫槽等
純粹熱的供應源來加以研究。由所得到的結果可以知道於雷射濕式蝕刻反應中,熱對
蝕刻中伴演著一個非常重要之角色,另外於蝕刻的縱向與柄向之結果亦可以作為熱蝕
刻反應之佐證,因為若只是光的效應,金屬銅蝕刻表面所得之蝕刻痕必定會與所接觸
之光的直徑(4.68μm )大小相當, 而吾人所得到的蝕刻痕卻有不同之數值, 此乃是
由於熱於金屬表面傳導開來之現象所致, 此一現象亦可以由光學顯微鏡照片中金屬表
面的漣漪狀(ripple formation)蝕刻結構來證明。
對於金屬銅於中性的硝酸鈉溶液中之雷射蝕刻,若不考慮蝕刻痕的深度與寬度間之比
例關係,則於相同的雷射入射能量之情況下,吾人發現最適宜的硝酸鈉蝕刻溶液濃度
約介於0.3M與0.6M之間,於此濃度可以得到最大蝕刻銅的量。
2.蝕刻痕之縱橫比
由於雷射的濕式蝕刻主要係由熱此一因素所控制,所以對於不同的雷射入射能量、步
進馬達行進速率、以及蝕刻溶液的濃度才會得到不同的蝕刻縱橫比值,而於結果與討
論中亦提到了於實際的工程應用上,縱橫比,為一個最主要的應用數值,雖然於吾人
的實驗中對從橫比有些許之探討,但是若能將以上影響縱橫比的因素與縱橫比之間建
立起有關的數學模式,相信對於實際的應用上必將有很大的助益,一般而言,對於相
同的蝕刻液濃度,若想要得到較深的蝕刻深度與較狹窄的蝕刻痕寬度,降低步進馬達
的行進速率,並提高入射的雷射光能量將有助於此一目的的達成。

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