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研究生:葉雲宇
研究生(外文):YE, YUN-YU
論文名稱:具伴隨邊界之加熱擾流偏位噴流之數值研究
指導教授:楊玉姿楊玉姿引用關係
指導教授(外文):WEI, JIONG-QUAN
學位類別:碩士
校院名稱:國立成功大學
系所名稱:機械工程研究所
學門:工程學門
學類:機械工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1992
畢業學年度:80
語文別:中文
論文頁數:109
中文關鍵詞:隨邊界加熱數值
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本文為對一衝擊在絕熱平板上的加熱擾流偏位噴流作數值計算。統御方程式以控制
體積法為基礎之有限差分法及冪次法則來離散成差分方程式,而擾流的行為與結構
則以k-ε擾流模式及牆函數來描述。動量方程式的速度及壓力以SIMPLE (Semi-
Implicit Method for Pressure-Linked Equation) 法求解出。在格點設計方面,
本文採用不等間距交錯式格點系統。
本流場研究可分成迴流區,衝擊區及牆噴流區三區域。影響流場的參數為出口雷諾
數,偏位比及噴流出口溫度。本文探討在出口雷諾數Re=15000下,不同偏位比 OR=
3,7,11及不同出口溫度Tex=67℃,90℃,112℃ 時,對流場之各種平均流動特性及
溫度分佈所造成的影響。由於衝擊平面為絕熱條件,使得流場之熱特性僅受噴流出
口溫度及伴隨邊界特性所影響。
在偏位比OR=7之未加熱流場中,數值計算結果之迴流中心位置在x/t=4.8,y/t=
2.5 處,分隔流線接觸點在x/t=10.4 處;實驗結果之迴流中心位置在x/t=7,y/
t=2.5處,分隔流線接觸點在x/t=12∼13 處;計算結果之接觸長度比實驗值短約
18﹪。由於本流場有明顯的流動曲率及呈現高度的異向性,使得以等向性為基本假
設之k-ε模式在預測衝擊下游會比迴流區來得準確。

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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