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研究生:莊俊彥
研究生(外文):CHUANG, JIUNN-YANN
論文名稱:高週波濺鍍法製備方向性氮化鋁薄膜
論文名稱(外文):Preparation of oriented aln films by R. F. sputtering
指導教授:林鵬林鵬引用關係
指導教授(外文):LIN, PANG
學位類別:碩士
校院名稱:國立交通大學
系所名稱:材料科學工程研究所
學門:工程學門
學類:材料工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1992
畢業學年度:80
語文別:英文
論文頁數:32
中文關鍵詞:高週波濺鍍法氧化鋁薄膜
外文關鍵詞:RF MAGNETRON-SPUTTERINGALN FILM
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本研究是以高週波磁控濺鍍法(RF MAGNETRON SPUTTERING) 製作氮化鋁薄膜,藉由
改變鍍膜參數如鍍膜壓力、N/Ar混合比例、RF輸出功率及基板溫度等來影響薄膜
的性質,並以X光繞射法及穿透式電子顯微鏡來觀察晶長方向及微觀結構之變化,
以掃描式電子顯微鏡觀察表面結構以FTIR偵測薄膜內部化學鏈結合性質之改變。
於本文中,我們試著提出一個簡化的模型,以數學式:

<1> = A' exp(-Q/2kT)*(τ)/ 

來解釋各種鍍膜參數對晶長方向的影響。此外,利用 TEM 及 Rocking curve 的分
析方法,發現由於斜向濺鍍的效應,使得(002) 柱狀晶體產生傾斜效應的特性。

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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