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研究生:趙希誠
研究生(外文):ZHAO, SI-CHENG
論文名稱:汞鎘碲反射與調制反射光譜之研究
論文名稱(外文):Reflectance and electrolyte electroreflectance of mercury cadmium telluride
指導教授:詹國禎詹國禎引用關係
指導教授(外文):ZHAN, GUO-ZHEN
學位類別:博士
校院名稱:國立臺灣大學
系所名稱:電機工程研究所
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1992
畢業學年度:80
語文別:中文
論文頁數:161
中文關鍵詞:汞鎘碲反射調制反射光譜
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第一章 緒論
第二章 基本理論
2.1 汞鎘碲的能帶
2.2 在汞鎘碲熱處理時汞的散失
2.3 調制反射光譜的第二導函數
2.4 調制反射光譜通用函數
2.5 汞鎘碲/陽極氧化層/電解液接面的光電流
2.6 汞鎘碲上氧化膜的反射率
第三章 實驗方法
3.1 試片表面處理
3.1.1 汞鎘碲晶片之處理
3.1.2 離子佈植
3.1.3 蒸鍍硫化鋅膜
3.1.4 電鍍硫化鎘膜
3.1.5 陽極氧化處理
3.2 毆傑電子能譜量測
3.3 二次離子質譜儀量測
3.4 橢球測量術
3.5 調制反射光譜測量系統
3.5.1 光源
3.5.2 分光儀
3.5.3 鎖相放大器
3.5.4 矽型光二極體
3.5.5 電解液電場調制反射光譜系統
3.6 氧化層的蝕刻
第四章 結果與討論
4.1 反射調制反射光譜測量方法之改善
4.1.1 試片處理方式之改良
4.1.2 電解液的選擇
4.1.3 調制電壓,補償電壓與調制頻率
4.1.4 偵測器與光源對分析數據的影響
4.2 汞鎘碲表面蝕刻之電調制反射光譜分析
4.2.1 溴一甲醇蝕刻之電調制反射光譜分析
4.2.2 陽極氧化模蝕刻法
4.3 毆傑電子能譜分析
4.4 二次離子質譜分析
4.5 硼離子佈植後的電調制反射光譜
4.6 硫化鋅膜退火處理後之電調制反射光譜
4.7 硫化鋅/硫化鎘/汞鎘碲的調制反射光譜
第五章 總結
參考文獻
附錄
#9204060
#9204060
目錄
中文摘要
英文摘要
誌謝
圖目
表目
縮寫英文字一覽表
第一章 緒論
第二章 基本理論
2.1 汞鎘碲的能帶
2.2 在汞鎘碲熱處理時汞的散失
2.3 調制反射光譜的第三導函數
2.4 調制反射光譜通用函數
2.5 汞鎘碲/陽極氧化層/電解液接面的光電流
2.6 汞鎘碲上氧化膜的反射
第三章 實驗方法
3.1 試片表面處理
3.2 毆傑電子能譜量測
3.3 二次離子質譜儀量測
3.4 橢球測量術
3.5 調制反射光譜測量系統
3.6 氧化層的蝕刻
第四章 結果與討論
4.1 反射與調制反射光譜測量方法之改善
4.2 汞鎘碲表面蝕刻之電調制反射光譜分析
4.3 毆傑電子能譜分析
4.4 二次離子質譜分析
4.5 硼離子佈植後的電調制反射光譜
4.6 硫化鋅膜退火處理後之電調制反射光譜
4.7 硫化鋅/硫化鎘/汞鎘碲的調制反射光譜
4.8 汞鎘碲表面氧化膜蝕刻之反射光譜分析
第五章 總結
參考文獻
附錄
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