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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:吳瑞龍
論文名稱:偶氮衍生物之合成及其在光阻上之應用
論文名稱(外文):The synthesis of naphthoquinone diazide derivative and its application on photoresist.
指導教授:劉瑞祥
指導教授(外文):Dr.Jui Hsiang Liu
學位類別:碩士
校院名稱:國立成功大學
系所名稱:化學工程研究所
學門:工程學門
學類:化學工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1993
畢業學年度:81
語文別:中文
論文頁數:76
中文關鍵詞:光阻
外文關鍵詞:photoresist
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本研究中合成了一種新的感光性-■琨偶氮衍生物(NQD)﹐並以IR、UV、
EA及GPC等來行定性分析。該 化合物之感度及應用在正型光阻當感光劑之
特性等均 被詳細探討。 本研究中以不同百分比之■琨偶氮衍生物和
No- volak 樹脂組合成正型光阻劑。Novolak 樹脂以 59% 莫耳含量的間
甲酚和 41%莫耳含量的甲醛經縮合反應 而合成的。包含三種不同NQD 含
量的光阻﹐其感度、 溶解速率及解像力等均被詳細探討。由研究結果發
現 在適當的含量下其具有非常高的解像力。Novolak 樹 脂的分子量和顯
影液濃度對光阻特性之影響也詳細被 評估。光阻劑之解像能力 (Rp/Ro)
、 γ-值和感度亦詳細的討論。 此正型光阻使用 i-line (365nm) 微影
術探討其 光阻特性。曝光方法為使用接觸印製法﹐但由於旋轉 塗佈時﹐
光阻膜的邊緣比中心處厚而使光罩與光阻間 留有空隙﹐因此曝光時會產
生光繞射現象﹐使光阻圖 案的尺寸不能與光罩尺寸一致。 NQD 含量對
解像力的影響、最佳的光阻劑配方、 照光時間和顯像條件等在本研究中
亦均有詳細的探討 。
A positive working photoresist was prepared by the new
naphthoquinone diazide (NQD) and a novolak resin. Novolak
resin is synthesized from 59 mol% of m-cresol and 41
mol% of formaldehyde by condensation reaction according to
the paper reported. Dissolution rate and resolutionability
of the photoresist containing various amount of NQD were
evaluated. It was found that the photoresist shows a
high esolution power under the optimum conditions. Effects
of the molecular weight of novolak resin and the
concentration of developer on the characteristics of
photoresist were investi- gated. The resolution
capability (Rp/Ro)、 -value and sensitivity of the photoresist
were also discussed. Effect of NQD content on the
resolution power、 the optimum photoresist composition、
irradiation time and dissolution conditions were all
invertigated in detail.
QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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