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臺灣博碩士論文加值系統

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研究生:陳志敏
研究生(外文):Jyh-Min Chen
論文名稱:以電漿化學氣相沉積法成長β-碳化矽薄膜
論文名稱(外文):Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition of β-SiC Thin Films
指導教授:裘性天
指導教授(外文):Hsin-Tien Chiu
學位類別:碩士
校院名稱:國立交通大學
系所名稱:應用化學系
學門:自然科學學門
學類:化學學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1993
畢業學年度:81
語文別:中文
中文關鍵詞:電漿化學氣相沉積碳化矽薄膜
外文關鍵詞:plasmachemical vapor deposition(CVD)silicon carbide(SiC)
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本研究以十二甲基環己矽烷作為前驅物,利用熱壁式反應器,以氫氣為載
流氣體,矽晶片為基材,在壓力(20-50mtorr),溫度(900-1200 .degree.
C), 13.56MHz 高週波功率(0-50W)下生成.beta.-SiC薄膜,探討氫氣電漿
對薄膜成長的影響,另外嘗試以PMePh2為磷的來源摻雜磷原子於薄膜內並
比較有無摻雜雜質之差異性。

QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
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