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研究生:杜志彬
研究生(外文):Ji-Bin Du
論文名稱:弱離化電漿中之自組形構研究
論文名稱(外文):Pattern formation in weakly ionized plasma
指導教授:伊林伊林引用關係
指導教授(外文):Lin I
學位類別:碩士
校院名稱:國立中央大學
系所名稱:物理研究所
學門:自然科學學門
學類:物理學類
論文種類:學術論文
論文出版年:1994
畢業學年度:82
語文別:中文
中文關鍵詞:射頻輝光放電自組形構自動對稱破缺
外文關鍵詞:RF glow dischargePattern formationSpontaneous symmetry
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本論文目的在於研究弱離氬氣電漿中的自發形構。射頻輝光放電系統
(Rf glow discharge)是一開放耗散系統(Open dissipative system)必須
不斷有能量及物質和外界交換以維持系統在一穩定狀狀態。 當系統的控
制參數達到閥值(critical value) 時,原來在時空上都均勻的電漿狀態
便會絰由自動對稱破缺(Sopntaneous Symmetry Breaking ) 而出現時空
結構。我們的系統是一個圓柱對稱系統, 圓周方向轉動的自發周期形構
經由 Subcritical Bifurcation 而產生。當形構旋轉,它的方向可以是
反時鐘也可以是順時鐘方向的,這兩個方向都是適合的解。 外加一軸向
磁場可以產生一圓周方向的力,這力的方向與磁場有關。 經由改變系統
的控制參數可以使得形構的空間結構改變。 形構的轉變是一階相變,亦
可隨著系統控制參數的調整,而表現出磁滯效應。 系統的對稱性對形構
影響很大,當系統的圓柱對稱被破壞時, 形構的對稱度也會受到影響。
如當系統中有缺陷時,原來轉動的形構便會受到阻礙不能轉動。

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