本實驗採用旋轉圓盤電極，在不同電位上，研究合金成分。實驗分成穩態
電壓與動態電壓兩部份。穩態電壓中以定電壓控制進行鎳鐵合金電鍍；動
態電壓中 (i)以定電壓及定電量控制進行鎳鐵合金電鍍，再以參有氯離子
溶液將鍍層以陽極掃描方式剝除；(ii)以電位掃描進行鎳鐵合金電鍍及剝
除。穩態電壓中鐵離子與鎳離子在低電壓區間受轉速影響，低轉速對應高
電流密度；在高電壓區間鐵離子受溶液中離子輸送影響，高轉速對應高電
流密度。添加不同濃度硼酸後發現硼酸漸增加鐵電流，並漸抑制鎳電流。
在溫度影響方面，發現鐵電流隨溫度增加而減少。動態電壓之兩項實驗在
低電壓電鍍鎳鐵，於剝除時均看見一個波峰。隨著電鍍電壓升高，在剝除
區域漸漸產生兩個波峰。發現在低電壓電鍍時以鐵離子沉積為主；隨著電
鍍電壓升高，鎳離子沉積明顯提高。在有添加劑作用下，發現硼酸會增加
鐵離子的沉積，抑制鎳離子的沉積。並做一些純鎳和純鐵的電鍍做為對照
組。穩態電壓中，純鎳電鍍在有硼酸作用下，在高電壓區間之鈍化現象消
失；純鐵電鍍與合金相似，但硼酸抑制鐵電流。動態電壓之兩項實驗中均
發現純鎳在低電壓電鍍，於剝除時只出現一個波峰，隨著電壓升高出現另
一個波峰，且發現添加硼酸會加強鎳離子沈積和抑制析氫反應。純鐵電鍍
在兩項動態電壓實驗中於剝除時均只出現一個波峰，而添加硼酸會抑制鐵
沈積和析氫反應。
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